[发明专利]反应器

说明书

本发明涉及一种反应器，根据本发明的一个方面，提供一种反应器，该反应器包括：设置有反应空间的外壳；设置在外壳内的管；设置在外壳内以允许反应空间中的反应物流入和流出管的叶轮；以及被设置为从反应空间朝向外壳壁面侧喷射液体的喷嘴。

技术领域

本发明涉及一种反应器，更具体地涉及发生结晶反应的结晶器。

本申请要求基于2015年11月30日提交的韩国专利申请第10-2015-0169417号的优先权的权益，该韩国专利申请的全文通过援引并入本文。

背景技术

结晶属于分离技术的领域，结晶可以通过晶体容易地分离所需的特定物质。因此，在工业领域中，通过使用结晶方法来生产各种产品。

通常，污垢的产生是结晶工艺中非常严重的问题。污垢主要产生在与液体表面接触的结晶器的内壁上，并且，随着时间推移，所产生的污垢逐渐增加。然后，大尺寸的污垢团块从结晶器的内壁分离，移动到结晶器内部，导致该工艺不稳定。

另外，需要定期清洁来除去所产生的污垢，为此，较短的生产时日导致生产量减少。

因此，为了提高工艺的稳定性并提高产品的产量，重要的是防止在结晶器壁面上产生污垢。

发明内容

技术问题

本发明要解决的问题是提供一种能够在结晶反应过程中抑制污垢的产生的反应器。

技术方案

为了解决上述问题，根据本发明的一个方面，提供一种反应器，所述反应器包括：外壳，设置有反应空间；管，设置在所述外壳内；叶轮，所述叶轮设置在所述外壳内以允许所述反应空间中的反应物流入和流出所述管；以及喷嘴，被设置为从所述反应空间朝向外壳壁面侧喷射液体。

此时，优选地，所述喷嘴被设置成使得喷射口位于所述外壳的壁面与所述管之间的距离的5％以下的位置处。

另外，所述喷嘴可以被设置成从所述外壳的壁面朝向所述管侧延伸之后朝向所述外壳壁面侧喷射所述液体。

此外，所述喷嘴可以设置成具有弯曲部。例如，所述喷嘴可以从所述外壳壁面朝向所述管侧延伸到具有预定的第一长度，然后朝向所述外壳壁面侧弯曲，并朝向所述外壳壁面侧延伸到具有第二长度。例如，优选地，所述第二长度比所述第一长度短。

而且，所述喷嘴的长度(第一长度)可以为所述外壳的壁面与所述管之间的距离的5％以下。

另外，可以设置成在所述反应空间内发生结晶反应并且所述喷嘴喷射液体以消除结晶热。即，所述喷嘴连接到用于供给所述液体的供给源。

此外，所述喷嘴可以被设置成使得在结晶反应过程中通过从所述喷嘴喷射的液体的蒸发而产生的蒸汽邻近所述外壳的壁面上升。

而且，所述管可以具有沿着所述外壳的高度方向的中空开口。另外，所述管可以被设置成使得在上端和下端的任一者处直径增大或减小。

另外，所述叶轮可以设置在所述管内。

根据本发明的另一方面，提供一种反应器，所述反应器包括：外壳，设置有反应空间；管，设置在所述外壳内；叶轮，所述叶轮设置在所述外壳内以允许所述反应空间中的反应物流入和流出所述管；以及喷嘴，所述喷嘴从外壳壁面朝向所述管侧延伸到预定长度(第一长度)从而将液体喷射到所述反应空间中，其中，所述喷嘴的长度(第一长度)为所述外壳壁面与所述管之间的距离的5％以下。

另外，可以设置成在所述反应空间中发生结晶反应并且所述喷嘴喷射液体以消除结晶热。

此外，优选地，所述喷嘴被设置成使得在结晶反应过程中通过从所述喷嘴喷射的液体的蒸发而产生的蒸汽邻近所述外壳的壁面上升。