[发明专利]放射线成像系统、信息处理装置和方法、以及存储介质有效

专利信息
申请号: 201680063496.4 申请日: 2016-10-24
公开(公告)号: CN108348203B 公开(公告)日: 2021-12-21
发明(设计)人: 町田佳士;岩下贵司 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: A61B6/00 分类号: A61B6/00;G01T7/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 周博俊
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 放射线 成像 系统 信息处理 装置 方法 以及 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种放射线成像系统,包括:

检测器,包括多个像素,所述多个像素获得与透射通过被检体的入射放射线对应的像素值;以及

信息处理单元,被配置为执行如下处理:使用所述多个像素中的一个任意像素的像素值,根据所述任意像素的像素值而计算出的所述任意像素的放射线量子的能量的平均值,指示在所述任意像素的像素值和包含在被检体中的物质的厚度之间的关系的第一表格,以及指示在所述任意像素的放射线量子的能量的平均值和包含在被检体中的物质的厚度之间的关系的第二表格,来估计关于包含在被检体中的物质的厚度的信息,

其中,信息处理单元包括:

第一计算单元,被配置为基于所述任意像素的像素值来计算所述多个像素中的所述任意像素的像素值的平均,

第二计算单元,被配置为根据使用所述任意像素的像素值而计算出的所述任意像素的像素值的方差和由第一计算单元计算出的所述任意像素的像素值的平均,来计算所述任意像素的放射线量子的能量的平均值,以及

估计单元,被配置为使用由第一计算单元计算出的所述任意像素的像素值的平均、由第二计算单元计算出的所述任意像素的放射线量子的能量的平均值、第一表格和第二表格来估计关于包括在被检体中的物质的厚度的信息,

其中,

第一表格指示在所述任意像素的像素值的平均、包含在被检体中的物质的厚度、和包含在被检体中的物质间的混合比率之间的关系,

第二表格指示在所述任意像素的放射线量子的能量的平均值、包含在被检体中的物质的厚度、和包含在被检体中的物质间的混合比率之间的关系,并且

估计单元估计关于包含在被检体中的物质的厚度和混合比率的信息。

2.根据权利要求1所述的放射线成像系统,其中,图像处理单元还包括:像素值产生单元,被配置为根据所估计的关于物质的厚度和混合比率的信息来产生物质的像素值。

3.根据权利要求2所述的放射线成像系统,其中,像素值产生单元包括第一像素值产生单元,第一像素值产生单元被配置为基于关于第一组成物质的厚度和混合比率的第一信息来产生作为第一组成物质的像素值的第一像素值,并且,像素值产生单元包括第二像素值产生单元,第二像素值产生单元被配置为基于关于第二组成物质的厚度和混合比率的第二信息来产生作为第二组成物质的像素值的第二像素值。

4.根据权利要求3所述的放射线成像系统,其中,在当包含在被检体中的两种不同物质中的第一组成物质的放射线能量表示为“E[kev]”时获得的线性衰减系数由“μ1(E)”表示,当这两种物质中的第二组成物质的放射线能量表示为“E[kev]”时获得的线性衰减系数由“μ2(E)”表示,被检体的厚度由“d”表示,第一组成物质的混合比率由“γ”表示,用于将能量转换为像素值的任意系数由“β”表示,第一像素值由“I1”表示,第二像素值由“I2”表示,并且在通过被检体之前的放射线的能谱由“n(E)”表示时,像素值产生单元通过执行以下计算中的至少一项来产生至少一种物质的像素值:

[数学式7]

[数学式8]

5.根据权利要求3所述的放射线成像系统,其中,在放射线的有效能量由“Eeff”表示,当包含在被检体中的两种不同物质中的第一组成物质的放射线的有效能量表示为“Eeff[kev]”时获得的线性衰减系数由“μ1(Eeff)”表示,当这两种物质中的第二组成物质的放射线的有效能量表示为“Eeff[kev]”时获得的线性衰减系数由“μ2(Eeff)”表示,第一组成物质的厚度由“d1”表示,第二组成物质的厚度由“d2”表示,第一物质的混合比率由“γ”表示,用于将能量转换为像素值的任意系数由“β”表示,第一像素值由“I1”表示,并且第二像素值由“I2”表示时,像素值产生单元通过执行以下计算中的至少一项来产生至少一种物质的像素值:

[数学式9]

[数学式10]

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社,未经佳能株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680063496.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top