[发明专利]具有传感器的设备以及执行目标测量的方法

说明书

公开了用于测量目标(例如，对准标记(例如，在衬底上))的方法和设备。在“飞入”方向执行目标与测量系统的测量斑点之间的相对运动(例如，目标朝向测量斑点的运动)，使得可以进行针对目标的第一测量。之后，在相反的“飞入”方向进行目标与测量斑点之间的相对运动，使得可以进行针对目标的第二测量。通过对这两个测量进行组合(例如，平均)，消除误差，并且可以实现更高的测量精度。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2015年10月12日提交的美国临时专利申请No.62/240,396的优先权，并且其全部内容通过引用并入本文。

技术领域

本描述涉及具有传感器的设备以及执行目标测量的方法。

背景技术

光刻设备是将期望的图案施加到衬底上(通常是施加到衬底的目标部分上)的机器。光刻设备可以用于例如集成电路(IC)的制造。在这种情况下，可以使用备选地被称为掩模或掩模版的图案形成装置来生成待形成在IC的各个层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括部分、一个或多个裸片)上。通常是经由成像到设置在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来实现图案的转印。通常，单个衬底将包括相继被图案化的相邻目标部分的网格。已知的光刻设备包括：所谓的步进器，在所谓的步进器中，通过将整个图案一次曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描器，在所谓的扫描器中，通过在给定方向(“扫描”方向)上穿过辐射束扫描图案、同时在平行或反平行于该方向的方向上同步扫描衬底来照射每个目标部分。也可以通过将图案压印到衬底上，来将图案从图案形成装置转印到衬底上。

为了控制图案化过程(即，通过其在衬底上创建图案的过程，并且该过程涉及图案化步骤(例如，光学光刻、压印光刻等)并且可选地涉及其他相关处理(例如，抗蚀剂施加、抗蚀剂显影、衬底烘烤、蚀刻等))以在衬底上精确地提供器件特征，通常在例如衬底上提供一个或多个量测目标(例如，套刻目标、对准标记等)。例如在光刻设备中提供一个或多个传感器来测量一个或多个目标，以测量或导出图案化过程的参数(例如，套刻、对准等)。

发明内容

因此，例如提供对目标的更精确的测量将是有利的，例如当产品特征变得越来越小时用于控制对准和/或套刻误差。

根据一个方面，提供了一种测量目标的方法，方法包括：在第一方向上执行目标与测量设备的测量斑点之间的第一相对运动；在第一相对运动之后，至少部分地在测量斑点位于目标上时或者为了使测量斑点变得位于目标上，在第二方向上执行测量斑点与目标之间的第二相对运动；在第二相对运动期间或之后，使用目标上的测量斑点，针对目标执行第一测量；在第一测量之后，在与第一方向实质上相反的方向上执行目标与测量斑点之间的第三相对运动；在第三相对运动之后，至少部分地在测量斑点位于目标上时或者为了使测量斑点变得位于目标上，在第二方向上执行测量斑点与目标之间的第四相对运动；以及在第四相对运动期间或之后，使用目标上的测量斑点，针对目标执行第二测量。

根据一个方面，提供了一种测量目标的方法，方法包括：在第一方向上，执行目标与测量设备的测量斑点之间的去往终止点的第一相对运动；在第一相对运动之后，至少部分地在测量斑点位于目标上时或者为了使测量斑点变得位于目标上，在第二方向上执行测量斑点与目标之间的第二相对运动；在第二相对运动期间或之后，使用目标上的测量斑点，针对目标执行第一测量；在第一测量之后，在与第一方向实质上相反的方向上执行目标与测量斑点之间的去往终止点的第三相对运动；在第三相对运动之后，至少部分地在测量斑点位于目标上时或者为了使测量斑点变得位于目标上，在第三方向上执行测量斑点与目标之间的第四相对运动；以及在第四相对运动期间或之后，使用目标上的测量斑点，针对目标执行第二测量。