[发明专利]作为无电金属沉积用稳定剂的水溶性且空气稳定的磷杂金刚烷

权利要求书

1.一种用于在基板上无电沉积出金属层的水性电解液组合物，其包含：

待沉积金属的金属离子源；

还原剂；

络合剂；

加速剂：以及

稳定剂，其特征在于该稳定剂为通式I的磷杂金刚烷：

其中碳原子1～6上的氢原子可彼此独立地被由氟、氯、溴、具有1～6个碳原子的烷基、具有1～6个碳原子的烷氧基、及具有1～6个碳原子的醇基所组成的群组中的一个基团取代。

2.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该磷杂金刚烷以≧0.05mg/L且≦100mg/L的浓度存在。

3.根据权利要求2所述的水性电解液组合物，其中该磷杂金刚烷以≧0.1mg/L且≦25mg/L的浓度存在。

4.根据权利要求3所述的水性电解液组合物，其中该磷杂金刚烷以≧0.5mg/L且≦10mg/L的浓度存在。

5.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该待沉积金属是从由镍、铜、钴、硼、银及金所组成的群组中选出的至少一种金属。

6.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该加速剂是从由糖精、乙内酰脲、绕丹宁、尿素、尿素衍生物及它们的混合物所组成的群组中选出的。

7.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该电解液实质上不含无机稳定剂、铅、铋、锌和/或锡。

8.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该组合物实质上不含氰化物、硒化合物以及含有氧化态介于-2与+5之间的硫的硫化合物。

9.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其进一步包含至少一种额外的羧酸和/或至少一种羧酸盐。

10.根据权利要求9所述的水性电解液组合物，其中该羧酸是从由丙烯酸、芳香羧酸、脂肪酸、脂族羧酸、酮酸、二羧酸、三羧酸、直链羧酸、杂环羧酸、饱和羧酸、不饱和羧酸、α-羟酸、及它们的混合物所组成的群组中选出的。

11.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该组合物的pH值介于pH 4与pH 7之间。

12.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该还原剂是从由次磷酸钠、甲醛、二甲基胺硼烷、胺硼烷、其他有机硼烷、及它们的混合物所组成的群组中选出的。

13.根据权利要求1所述的水性电解液组合物，其中该络合剂是从由2-羟基丙酸、丙二酸(甲烷二酸)、EDTA与氨基乙酸所组成的群组中选出的。

14.一种在基板上无电沉积出金属层的方法，包括如下步骤：

使待镀敷的基板与电解液接触，该电解液包含：

待沉积金属的金属离子源；

还原剂；

络合剂；

加速剂：以及

稳定剂，其特征在于该电解液包含通式I的磷杂金刚烷作为稳定剂：

其中碳原子1～6上的氢原子可彼此独立地被由氟、氯、溴、具有1～6个碳原子的烷基、具有1～6个碳原子的烷氧基、及具有1～6个碳原子的醇基所组成的群组中的一个基团取代。

15.根据权利要求14所述的方法，其中该基板在≧20℃且≦85℃的温度下与该电解液接触。

16.根据权利要求15所述的方法，其中该基板在≧25℃且≦70℃的温度下与该电解液接触。

17.根据权利要求14所述的方法，其中该基板与该电解液接触≧1秒且≦180分钟的一段时间。