[发明专利]喷嘴板及使用了该喷嘴板的液体喷出头以及记录装置有效
申请号: | 201680056246.8 | 申请日: | 2016-09-16 |
公开(公告)号: | CN108025553B | 公开(公告)日: | 2019-09-24 |
发明(设计)人: | 东别府诚 | 申请(专利权)人: | 京瓷株式会社 |
主分类号: | B41J2/14 | 分类号: | B41J2/14;B41J2/16 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 喷嘴 使用 液体 喷出 以及 记录 装置 | ||
1.一种喷嘴板,其特征在于,
所述喷嘴板具有:
基材,其具有成为喷嘴的贯通孔;以及
金属膜,其配置于该基材的至少所述贯通孔的内壁,
所述基材以镍为主成分,
所述金属膜以镍以及钯为主成分,
包括所述基材以及所述金属膜在内的剖面中的、沿着所述基材与所述金属膜的界面的假想线A上的、所述金属膜的钯含有率的偏差为4原子%以下,
在所述基材的所述界面侧存在与所述基材的中央部的氧含有率相比氧含有率高的富氧层。
2.根据权利要求1所述的喷嘴板,其特征在于,
所述金属膜的厚度为0.1~5μm。
3.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其特征在于,
包括所述基材以及所述金属膜在内的剖面中的、沿着所述基材与所述金属膜的界面的假想线B上的、所述富氧层的氧含有率的偏差为1原子%以下。
4.根据权利要求3所述的喷嘴板,其特征在于,
假想线B上的所述富氧层的平均氧含有率为1~4原子%。
5.根据权利要求1或2所述的喷嘴板,其特征在于,
所述基材的中央部的氧含有率为1原子%以下。
6.根据权利要求3所述的喷嘴板,其特征在于,
所述基材的中央部的氧含有率为1原子%以下。
7.根据权利要求4所述的喷嘴板,其特征在于,
所述基材的中央部的氧含有率为1原子%以下。
8.一种液体喷出头,其特征在于,
所述液体喷出头具备:
权利要求1至7中任一项所述的喷嘴板;
加压室,其与所述贯通孔相连;以及
加压部,其对该加压室施加压力。
9.一种记录装置,其特征在于,
所述记录装置具备:
权利要求8所述的液体喷出头;
输送部,其将记录介质相对于所述液体喷出头进行输送;以及
控制部,其对所述液体喷出头进行控制。
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