[发明专利]聚乙烯醇系薄膜、及使用其的偏光膜、偏光板、以及聚乙烯醇系薄膜的制造方法有效
申请号: | 201680056089.0 | 申请日: | 2016-10-27 |
公开(公告)号: | CN108027472B | 公开(公告)日: | 2020-12-04 |
发明(设计)人: | 北村秀一;寺本裕一;早川诚一郎 | 申请(专利权)人: | 三菱化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;B29C55/08;G02F1/1335;G02F1/13363;B29K29/00;B29L7/00;B29L11/00 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 聚乙烯醇 薄膜 使用 偏光 以及 制造 方法 | ||
1.一种聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,其为厚度5~60μm、宽度2m以上、长度2km以上的聚乙烯醇系薄膜,其满足下述式(1)和(2),
(1)面内相位差Rxy≤20nm
(2)厚度方向相位差Rth≥90nm
在此,面内相位差Rxy(nm)和厚度方向相位差Rth(nm)是在所述聚乙烯醇系薄膜中将宽度方向即TD方向的折射率设为nx、长度方向即MD方向的折射率设为ny、厚度方向的折射率设为nz、厚度设为d(nm)的情况下分别用下述式(A)、(B)算出得到的值,
(A)Rxy(nm)=|nx-ny|×d(nm)
(B)Rth(nm)={(nx+ny)/2-nz}×d(nm)。
2.根据权利要求1所述的聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,宽度方向即TD方向中的所述面内相位差Rxy的偏差ΔRxy为5nm以下。
3.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,宽度方向即TD方向中的所述厚度方向相位差Rth的偏差ΔRth为30nm以下。
4.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,在30℃水中浸渍15分钟测定薄膜的溶胀度时,宽度方向即TD方向的溶胀度X(%)、长度方向即MD方向的溶胀度Y(%)、厚度方向的溶胀度Z(%)满足Z≥1.1X、并且Z≥1.1Y。
5.根据权利要求4所述的聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,宽度方向即TD方向的所述溶胀度X(%)的偏差ΔX(%)、长度方向即MD方向的所述溶胀度Y(%)的偏差ΔY(%)、和厚度方向的所述溶胀度Z(%)的偏差ΔZ(%)都为5%以内。
6.根据权利要求1或2所述的聚乙烯醇系薄膜,其特征在于,所述聚乙烯醇系薄膜的厚度为5~30μm。
7.一种偏光膜,其特征在于,其使用权利要求1~6中任一项所述的聚乙烯醇系薄膜。
8.一种偏光板,其特征在于,其具备权利要求7所述的偏光膜、和设置于所述偏光膜的至少单面的保护薄膜。
9.一种聚乙烯醇系薄膜的制造方法,其特征在于,其具备如下工序:利用连续浇注法将聚乙烯醇系树脂的水溶液制膜的工序;自浇注模具剥离后,在流动方向即MD方向搬送的同时、连续地干燥的工序;和在宽度方向即TD方向拉伸的工序,所制造的聚乙烯醇系薄膜满足下述式(1)和(2),
(1)面内相位差Rxy≤20nm
(2)厚度方向相位差Rth≥90nm
在此,所述面内相位差Rxy(nm)和所述厚度方向相位差Rth(nm)是在聚乙烯醇系薄膜中将宽度方向即TD方向的折射率设为nx、流动方向即MD方向的折射率设为ny、厚度方向的折射率设为nz、厚度设为d(nm)的情况下分别用下述式(A)、(B)算出得到的值,
(A)Rxy(nm)=|nx-ny|×d(nm)
(B)Rth(nm)={(nx+ny)/2-nz}×d(nm)。
10.根据权利要求9所述的聚乙烯醇系薄膜的制造方法,其特征在于,在薄膜的宽度方向即TD方向进行1.05~1.3倍拉伸。
11.根据权利要求9或10所述的聚乙烯醇系薄膜的制造方法,其特征在于,在薄膜的宽度方向即TD方向进行逐次拉伸。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三菱化学株式会社,未经三菱化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680056089.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:泵和阻挡装置
- 下一篇:具有含硫取代基的杀有害生物活性杂环衍生物