[发明专利]改进的溅射线圈产品和制作方法

权利要求书

1.一种用于供物理气相沉积装置使用的高表面积线圈，所述高表面积线圈包括：

第一表面；

第一表面的至少部分具有表面粗糙度在大约15μm和大约150μm之间的宏观织构；以及

具有宏观织构的第一表面的至少部分具有表面粗糙度在大约3μm和15μm之间的微观织构。

2.权利要求1所述的高表面积线圈，其中微观织构表面粗糙度在大约5μm和大约10μm之间。

3.权利要求1或2中任一项所述的高表面积线圈，其中具有微观织构的第一表面的部分具有在大约140%和大约1000%之间的宏观织构百分比表面积。

4.权利要求1-3中任一项所述的高表面积线圈，其中具有宏观织构的第一表面的部分具有在大约140%和大约300%之间的微观织构百分比表面积。

5.权利要求1-4中任一项所述的高表面积线圈，其中线圈的百分比表面积在大约120%和1000%之间。

6.一种形成用于供物理气相沉积装置使用的高表面积线圈的方法，包括：

在线圈的第一表面的至少部分上形成宏观织构；以及

在包含宏观织构的第一表面的至少部分上形成微观织构，

其中，在形成宏观织构和形成微观织构之后，线圈具有至少120%的百分比表面积。

7.权利要求6所述的方法，其中形成宏观织构包括形成滚花、机械加工或者浮雕的图案中的至少一个。

8.权利要求6或7中任一项所述的方法，其中形成微观织构包括喷砂处理、蚀刻、电子束、喷丸硬化、机械加工、激光、压印或者滚花中的至少一个。

9.权利要求6-8中任一项所述的方法，其中，在形成宏观织构和形成微观织构之后，线圈具有在大约2μm和大约75μm Ra之间的表面粗糙度。

10.权利要求6-9中任一项所述的方法，其中线圈的百分比表面积在大约120%和1000%之间。