[发明专利]显示装置以及用于制造其的方法有效

专利信息
申请号: 201680053737.7 申请日: 2016-08-05
公开(公告)号: CN108029175B 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 大地朋和 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H05B33/10 分类号: H05B33/10;G09F9/30;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/12;H05B33/22;H05B33/24
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 余刚;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示装置 以及 用于 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造显示装置的方法,所述显示装置包括以二维矩阵布置的多个像素,每个所述像素包括第一发光元件、第二发光元件和第三发光元件,

每个所述像素包括最下层层间绝缘层、形成在所述最下层层间绝缘层上的第一层间绝缘层、形成在所述第一层间绝缘层上的第二层间绝缘层、以及最上层层间绝缘层,

所述第一发光元件、所述第二发光元件和所述第三发光元件的每个包括:

第一电极,形成在所述最上层层间绝缘层上;

绝缘膜,至少形成在所述最上层层间绝缘层的未形成所述第一电极的区域上;

有机层,从所述第一电极上方遍及所述绝缘膜上形成并且包括由有机发光材料构成的发光层;以及

第二电极,形成在所述有机层上,

所述第一发光元件包括形成在所述最下层层间绝缘层上的第一光反射层,

所述第二发光元件包括形成在所述第一层间绝缘层上的第二光反射层,并且

所述第三发光元件包括形成在所述第二层间绝缘层上的第三光反射层,所述方法包括:

(A)形成最下层层间绝缘层、图案化的第一层间绝缘层、和图案化的第二层间绝缘层;然后

(B)在整个表面上形成光反射层以及然后图案化所述光反射层以在所述最下层层间绝缘层的将形成第一发光元件的区域上形成第一光反射层,在所述第一层间绝缘层的将形成第二发光元件的区域上形成第二光反射层,并且在所述第二层间绝缘层的将形成第三发光元件的区域上形成第三光反射层;然后

(C)蚀刻位于所述第一发光元件和所述第二发光元件之间的边界区域中的至少所述第一层间绝缘层的一部分以形成第一凹部,同时

蚀刻位于所述第二发光元件和所述第三发光元件之间的边界区域中的至少所述第二层间绝缘层的一部分以形成第二凹部,并且同时

蚀刻位于所述第一发光元件和所述第三发光元件之间的边界区域中的至少所述第一层间绝缘层的一部分以及所述第二层间绝缘层的一部分以形成第三凹部;然后

(D)在整个表面上形成最上层层间绝缘层并且然后平坦化所述最上层层间绝缘层以分别在所述第一凹部、所述第二凹部、和所述第三凹部上方的所述最上层层间绝缘层的一部分中形成第一沟部、第二沟部、和第三沟部;并且然后

(E)在所述第一沟部、所述第二沟部、和所述第三沟部的内侧形成遮光层。

2.根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,其中

在步骤(C)中,

蚀刻位于所述第一发光元件和所述第二发光元件之间的边界区域中的所述最下层层间绝缘层的一部分和所述第一层间绝缘层的一部分以形成第一凹部,同时

蚀刻位于所述第二发光元件和所述第三发光元件之间的边界区域中的所述第一层间绝缘层的一部分和所述第二层间绝缘层的一部分以形成第二凹部,并且同时

蚀刻位于所述第一发光元件和所述第三发光元件之间的边界区域中的所述最下层层间绝缘层的一部分、所述第一层间绝缘层的一部分、和所述第二层间绝缘层的一部分以形成第三凹部。

3.根据权利要求1所述的用于制造显示装置的方法,其中

所述第一沟部的底部的最下部和所述第三沟部的底部的最下部位于高于所述第一光反射层的顶面的位置,并且

所述第二沟部的底部的最下部位于高于所述第二光反射层的顶面的位置。

4.根据权利要求3所述的用于制造显示装置的方法,其中

所述第一沟部的底部的最下部和所述第三沟部的底部的最下部位于比所述第三发光元件更接近所述第一发光元件的位置,并且

所述第二沟部的底部的最下部位于比所述第三发光元件更接近所述第二发光元件的位置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼公司,未经索尼公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680053737.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top