[发明专利]基于辅助电磁场的引入的一阶散射测量叠对的新方法

说明书

本发明提供计量测量方法及工具，其由固定的照明源照明固定的衍射目标；测量由零阶衍射信号及一阶衍射信号的总和组成的信号；维持所述衍射目标及所述照明源固定的同时，针对所述零与所述第一衍射信号之间的多个关系重复所述测量；及从所述测量总和导出所述一阶衍射信号。照明可为相干的且可在光瞳平面中测量，或照明可为不相干的且可在场平面中测量，在任一情况下，测量所述零与所述一衍射阶的部分重叠。照明可为环形且所述衍射目标可为带有具有不同节距以分离所述重叠区域的周期性结构的单个单元SCOL目标。

相关申请案的交叉参考

本申请案主张于2015年9月9日申请的第62/215,895号美国临时专利申请案的权益，所述美国申请案以全文引用的方式并入本文中。

技术领域

本发明涉及散射测量计量的领域，且更特定来说，涉及单个一阶衍射信号的测量。

背景技术

角度解析散射测量正被广泛用于监测堆叠式周期性结构(例如，光栅上光栅(grating on grating)目标)之间的叠对误差。

全文以引用的方式并入本文中的第7,403,293号美国专利案揭示使用：经布置以产生测量光束的超连续谱光源、经布置以将测量光束引导到衬底上的光学系统，及用于检测由结构反射及/或衍射的辐射的传感器。

发明内容

下文是提供本发明的初步理解的简化概述。概述不一定识别关键元件也不限制本发明的范围，而仅作为下文描述的引言。

本发明的一个方面提供一种计量测量方法，其包括：由固定的照明源照明固定的衍射目标；测量由零阶衍射信号与一阶衍射信号的总和组成的信号；维持衍射目标及照明源固定的同时，针对零阶衍射信号与一阶衍射信号之间的多个关系重复所述测量；及从所述测量总和导出一阶衍射信号。

本发明的这些、额外及/或其它方面及/或优点于下列详细描述中加以陈述；可由详细描述推断；及/或可由本发明的实践而学习。

附图说明

为了更好地理解本发明的实施例且展示可如何实行本发明的实施例，现将仅以实例方式参考附图，其中相似的元件符号指定全文对应元件或区段。

在附图中：

图1是根据本发明的一些实施例的由计量工具分别于光瞳或场平面中进行相位扫描的高级示意说明。

图2是根据本发明的一些实施例的用于测量场平面中的信号的光瞳配置(在光瞳平面中)的高级示意说明。

图3是根据本发明的一些实施例的带有从目标单元衍射的环形照明的光瞳方案的高级示意说明，所述目标单元具有带有不同节距的周期性结构。

图4A是根据本发明的一些实施例的计量工具的高级示意框图。

图4B是根据本发明的一些实施例的衍射目标的高级示意说明。

图5是说明根据本发明的一些实施例的计量测量方法的高级流程图。

具体实施方式

在陈述详细描述之前，陈述将在下文中使用的某些术语的定义可能是有用的。

如用于本申请案的术语“衍射信号”是指经衍射离开周期性结构的电磁场。如使用于本申请案的术语“零阶衍射信号”及“一阶散射信号”是指与指定衍射阶(即零阶及一阶)相关联的电磁场。+1及-1一阶衍射信号是指一阶衍射信号的两个波瓣。如使用于本申请案的关于两个衍射阶信号的术语“总和”是指对应的衍射阶信号的电磁场的干扰造成的电磁场。