[发明专利]多孔膜及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201680051197.9 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN107922664A 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 菅原司 申请(专利权)人: 东京应化工业株式会社
主分类号: C08J9/26 分类号: C08J9/26;B01D69/00;B01D71/34;B01D71/64;B01D71/68;H01M2/16
代理公司: 北京市金杜律师事务所11256 代理人: 杨宏军,李国卿
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 多孔 及其 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及多孔膜及其制造方法。

背景技术

一直以来,在过滤器等用途中使用各种多孔膜。另外,近年来,多孔膜在锂电池等二次电池用的隔膜用途中的应用也在发展。

例如,作为聚酰亚胺多孔膜的制造方法,下述方法是已知的:将在聚酰胺酸、聚酰亚胺的溶液中分散二氧化硅粒子而得到的清漆涂布于基板上,然后根据需要对涂布膜进行加热,得到包含二氧化硅粒子的聚酰亚胺膜,接着,用氟化氢水溶液将聚酰亚胺膜中的二氧化硅溶出除去,从而使其多孔化(参见专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本专利第5605566号公报

发明内容

发明要解决的课题

作为上述的多孔膜,需要表面平滑的多孔膜。例如,在二次电池的隔膜的用途中,通过使隔膜与电极良好地密合来提高电池性能。若用作隔膜的多孔膜的表面平滑,则隔膜与电极良好地密合。

另外,在作为气体或液体的分离用膜的过滤器中,期望使多孔膜与支承该多孔膜的支承体良好地密合。若多孔膜与支承体良好地密合,则过滤器的分离性能及操作性提高。多孔膜的表面平滑时,多孔膜的透过性(通液性)提高,且操作性也良好。

本发明是鉴于上述情况而作出的,目的在于提供表面平滑性优异的多孔膜及其制造方法。

用于解决课题的手段

本申请发明人为解决上述课题反复进行了深入研究。结果发现,针对制造多孔膜时使用的清漆的制造条件,通过调节混炼时间等条件,可得到表面平滑性优异的多孔膜,由此完成了本发明。

本发明的第一方式为多孔膜,其是聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺的多孔膜,所述多孔膜的表面粗糙度Ra为3万以下。

本发明的第二方式为多孔膜,其是聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺的多孔膜,

所述多孔膜包含球状孔相互连通而成的结构,

不存在比表面的开口部所形成的凹陷更深的起伏(日语:うねり),

开口部的直径为100nm~5000nm。

本发明的第三方式为聚偏二氟乙烯、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺的多孔膜的制造方法,其包括下述工序:以含有微粒和选自由聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺前体及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种树脂的未烧成复合膜的表面粗糙度Ra成为3万以下的方式,对含有微粒和树脂的清漆进行混炼。

本发明的第四方式为多孔膜的制造方法,其是聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺的多孔膜的制造方法,所述制造方法包括对下述清漆进行混炼的工序,所述清漆含有微粒和选自由聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰胺酸、聚酰亚胺、聚酰胺酰亚胺前体及聚酰胺酰亚胺组成的组中的至少一种树脂,

对于清漆而言,25℃时的粘度为0.1~3Pa·s,固态成分浓度为10~50质量%,微粒的平均粒径为10~5000nm,

混炼进行2分钟~10小时。

发明的效果

根据本发明,能够提供表面平滑性优异的多孔膜及其制造方法。

附图说明

[图1]为表示实施例1中得到的多孔膜的电子显微镜图像的图。

[图2]为表示比较例1中得到的多孔膜的电子显微镜图像的图。

具体实施方式

以下,对本发明的实施方式详细地进行说明,但本发明并不受以下实施方式的任何限定,可在本发明目的的范围内添加适当变更来实施。

《聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺的多孔膜》

多孔膜由聚偏二氟乙烯、聚醚砜、聚酰亚胺及/或聚酰胺酰亚胺形成。多孔膜的表面粗糙度Ra为3万以下,优选为以下,更优选为以下,进一步优选为以下。因此,多孔膜的平滑性优异。

多孔膜的表面粗糙度Ra大于3万时,大多情况下,在包含微粒和树脂的未烧成复合膜中产生对流,由此未烧成复合膜的表面粗糙度的值变高。若在未烧成复合膜中产生对流,则微粒在未烧成复合膜中的分布容易产生不均。例如,微粒在未烧成复合膜中的膜厚薄的谷部分中较密,而另一方面,微粒在膜厚厚的峰部分中较疏;或者,微粒在峰部分中较疏,而另一方面,微粒在谷部分中较密。

该情况下,从未烧成复合膜除去微粒而形成多孔膜的结果是将会得到开口分布存在不均的多孔膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京应化工业株式会社,未经东京应化工业株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680051197.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top