[发明专利]PZT铁电体膜的形成方法有效
| 申请号： | 201680049774.0 | 申请日： | 2016-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN108352443B | 公开（公告）日： | 2021-11-05 |
| 发明（设计）人： | 田头裕己;志村礼司郎;高村禅;李金望;下田达也;渡边敏昭;曾山信幸 | 申请（专利权）人： | 国立大学法人北陆先端科学技术大学院大学;三菱综合材料株式会社 |
| 主分类号： | H01L41/43 | 分类号： | H01L41/43;H01L41/318;H01L21/316;H01L21/8246;H01L27/105;H01L41/187 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 童春媛;鲁炜 |
| 地址： | 日本石川*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | pzt 铁电体 形成 方法 | ||
【权利要求书】：
1. PZT铁电体膜的形成方法，其包括下述的工序：
涂布PZT铁电体膜形成用液体组合物的工序；
将涂布前述液体组合物而得的膜干燥的工序；
对前述已干燥的膜在含氧气氛下以150～200℃的温度进行紫外线照射的工序；以及
将前述涂布工序、前述干燥工序及前述紫外线照射工序进行1次或2次以上之后，在含氧气氛下以0.5℃/秒以上的速度升温、或在不含氧气氛下以0.2℃/秒以上的速度升温，并保持于400～500℃的温度，由此将前述经紫外线照射的铁电体膜的前体膜煅烧而结晶的工序，
其中，设定前述液体组合物的每1次的涂布量，使得每涂布1次的前述铁电体膜的厚度为150nm以上，且
在前述紫外线照射时供给臭氧。
2.权利要求1所述的PZT铁电体膜的形成方法，其中，前述液体组合物中的Pb、Zr、Ti的金属的原子比为Pb：Zr：Ti=100～125：20～80：80～20。
3.权利要求1或2所述的形成方法，其中，前述液体组合物包含PZT铁电体膜的PZT前体、溶剂和为聚乙烯基吡咯烷酮(PVP)、聚丙烯酰胺或聚乙烯基乙酰胺的反应控制物质，前述反应控制物质的含量相对于1摩尔的前述前体为0.0025～0.25摩尔。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于国立大学法人北陆先端科学技术大学院大学;三菱综合材料株式会社，未经国立大学法人北陆先端科学技术大学院大学;三菱综合材料株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680049774.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
