[发明专利]用于有机膜的化学机械研磨研浆组成物、其制备方法以及使用其的研磨有机膜的方法

权利要求书

1.一种化学机械研磨研浆组成物，其特征在于，包括氧化剂及溶剂，

其中所述氧化剂包括氯化铜及硝酸铜中的至少一者，所述化学机械研磨研浆组成物具有通过方程式(1)所计算的为5°至90°的水接触角变化Δθ_w，在将涂布有有机膜而待研磨的晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中10小时之后所测量：

方程式(1)：

水接触角变化Δθ_w＝│θ₁-θ₂│，

在方程式(1)中，θ₁表示通过在将涂布有所述有机膜的所述晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中之前将去离子水滴至所述有机膜的表面上所测量的所述有机膜的水接触角，且θ₂表示通过在将所述晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中10小时之后将去离子水滴至所述有机膜的表面上所测量的所述有机膜的水接触角。

2.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述氧化剂更包括选自Fe³⁺、Ce⁴⁺、Ce³⁺及Ag⁺中的至少一者。

3.根据权利要求2所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述氧化剂还包括过氧化氢。

4.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述氧化剂更包括Fe³⁺、Ce³⁺或Ce⁴⁺。

5.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述氧化剂更包括选自Ce⁴⁺、Ce³⁺及Ag⁺中的至少一种金属离子与过氧化氢的混合物。

6.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述氧化剂以0.001重量％至5重量％的量存在于所述化学机械研磨研浆组成物中。

7.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述化学机械研磨研浆组成物还包含磨料。

8.根据权利要求7所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述磨料包括选自氧化硅、氧化铝、氧化铈、氧化钛及氧化锆中的至少一者。

9.根据权利要求7所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述磨料以0.01重量％至5重量％的量存在于所述化学机械研磨研浆组成物中。

10.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述化学机械研磨研浆组成物具有通过方程式(2)所计算的为1°至50°的环己烷接触角变化Δθ_n，在将涂布有所述有机膜而待研磨的晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中10小时之后所测量：

方程式(2)：

接触角变化Δθ_n＝│θ₃–θ₄│，

在方程式(2)中，θ₃表示通过在将涂布有所述有机膜的所述晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中之前将环己烷滴至所述有机膜的表面上所测量的所述有机膜的接触角，且θ₄表示通过在将所述晶圆浸渍于所述化学机械研磨研浆组成物中10小时之后将环己烷滴至所述有机膜的表面上所测量的所述有机膜的接触角。

11.根据权利要求1所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述有机膜具有50重量％至95重量％的碳含量。

12.根据权利要求11所述的化学机械研磨研浆组成物，其中所述化学机械研磨研浆组成物具有相对于所述有机膜为500埃/分钟至10000埃/分钟的研磨速率。