[发明专利]具有高盐稳定性的含SiO2的分散体

权利要求书

1.制备水性分散体的方法，所述水性分散体包含表面改性的亲水性热解二氧化硅颗粒，其中，

A)所述表面改性的亲水性热解二氧化硅颗粒包含铝原子和烃基，

a)所述铝原子通过氧原子键合到所述颗粒表面的硅原子上，

b)所述烃基包含键合到该烃基碳原子上的硅原子，

c)所述分散体中平均粒径d₅₀为40-200nm，

以及，

B)所述分散体的pH值为8或者更高，

其特征在于，

-将在颗粒表面具有每个都带有羟基的硅原子的热解二氧化硅添加到碱金属铝酸盐的水溶液中并反应，随后

-加入表面改性剂，在该表面改性剂中Si原子通过C原子键合到烃基上，并且所述Si原子还键合到一个或多个羟基、烷氧基、卤化物基团或其组合上，

-然后使混合物发生反应，任选调节pH值以及任选分离掉水解产物，

其中通过调节pH至11或更高，在50-95℃的温度下热处理混合物1-30分钟，然后任选将pH调节至8或更高，从而使混合物发生反应，

所述表面改性剂选自X_4-aSi-[(CH₂)_n-Y_m-R]_a，其中

a＝1、2或3；n＝1、2或3；m＝0或1，

X＝OH、OCH₃、OC₂H₅、OCH₂CH₂CH₃、OCH(CH₃)₂、Cl，

Y＝-(OCR¹R²-CR³R⁴)_o-，其中o＝1-30，R¹、R²、R³、R⁴彼此独立地为H或CH₃；或者，-(OCR¹R²-CR³R⁴-CR⁵R⁶)_p-，其中p＝1-30，R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶彼此独立地为H或CH₃，

R是不赋予疏水性的基团，

如果m＝1，

R＝-H、-CH₃、-C₂H₅、-OH、-OCH₃、-OC₂H₅、-C(＝O)OCH₃、-C(＝O)OC₂H₅、-O-C(＝O)CH₃、-O-C(＝O)CH＝CH₂、-O-C(＝O)CH＝CH(CH₃)、-C(＝O)CH₃、-C(＝O)H、NH₂、

如果m＝0，上述基团R不包括-H、-CH₃、-C₂H₅。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述热解二氧化硅以水性分散体的形式被加入。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述碱金属铝酸盐为铝酸钠。

4.根据权利要求1-3之一所述的方法，其特征在于，使用掺杂钾的二氧化硅，其以K₂O计的钾含量为0.005-5重量％，BET表面积为100-350m²/g。