[发明专利]位置测量系统、干涉仪和光刻设备

权利要求书

1.一种位置测量系统，包括：

具有反射表面的物体，以及

用于确定所述物体的位置的干涉仪，

其中所述反射表面具有第一区域、第二区域和第三区域，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第一区域来生成表示所述位置的第一信号，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第二区域来生成表示所述位置的第二信号，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第三区域来生成表示所述位置的第三信号，

其中沿着一个线，所述第一区域和所述第二区域相对于彼此处于第一距离处，

其中沿着所述线，所述第二区域和所述第三区域相对于彼此处于第二距离处，

其中沿着所述线，所述第一区域和所述第三区域相对于彼此处于第三距离处，

其中所述第一距离、所述第二距离和所述第三距离彼此不同，

其中所述干涉仪被布置为基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号来提供表示所述物体沿着轴线的旋转的旋转信号，

其中所述轴线平行于所述反射表面并且垂直于所述线。

2.根据权利要求1所述的位置测量系统，进一步被布置为基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号来确定所述反射表面的形状。

3.根据前述权利要求中任一项所述的位置测量系统，其中所述反射表面具有第四区域和第五区域，

其中所述第四区域相对于所述线处于第一偏移处，

其中所述第五区域相对于所述线处于第二偏移处，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第四区域来生成表示所述位置的第四信号，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第五区域来生成表示所述位置的第五信号，

其中所述第一偏移的长度不同于所述第二偏移的长度。

4.根据权利要求3所述的位置测量系统，其中所述第一偏移的方向与所述第二偏移的方向相反。

5.根据权利要求3或4所述的位置测量系统，其中所述物体围绕另外的轴线可旋转，

其中所述位置测量系统被布置为基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号中的至少一个信号以及基于所述第四信号和所述第五信号中的至少一个信号来确定所述物体围绕所述另外的轴线的另外的旋转。

6.根据权利要求5所述的位置测量系统，其中所述另外的轴线平行于所述线。

7.根据权利要求3至6中任一项所述的位置测量系统，其中所述物体包括第一反射表面和与所述第一反射表面分离的第二反射表面，

其中所述反射表面由所述第一反射表面和所述第二反射表面形成，

其中所述第一区域、所述第二区域和所述第三区域在所述第一反射表面上，

其中所述第四区域和所述第五区域在所述第二反射表面上。

8.根据权利要求3至7中任一项所述的位置测量系统，

其中所述反射表面具有第六区域，

其中所述干涉仪被布置为通过照射所述第六区域来生成表示所述位置的第六信号，

其中所述第六区域相对于所述线处于第三偏移处，

其中沿着所述线，所述第四区域和所述第五区域相对于彼此处于第四距离处，

其中沿着所述线，所述第五区域和所述第六区域相对于彼此处于第五距离处，

其中沿着所述线，所述第四区域和所述第六区域相对于彼此处于第六距离处，

其中所述第四距离、所述第五距离和所述第六距离彼此不同。

9.根据权利要求3至8中任一项所述的位置测量系统，包括被布置为基于所述物体的旋转来提供旋转初始化信号的旋转调零系统，

其中所述位置测量系统被布置为基于所述旋转信号和所述旋转初始化信号来确定所述物体的绝对旋转。

10.根据前述权利要求中任一项所述的位置测量系统，包括被布置为基于所述物体的位置来提供位置初始化信号的位置调零系统，

其中所述位置测量系统被布置为基于所述第一信号、所述第二信号和所述第三信号以及所述位置初始化信号来确定所述物体的绝对位置。

11.根据前述权利要求中任一项所述的位置测量系统，其中所述干涉仪包括双通干涉仪。