[发明专利]用于定量光谱的频率配准偏差的重构

权利要求书

1.一种校正方法，包括：

表征光谱分析系统的频率配准偏差，所述表征包括记录指示所述光谱分析系统的光源相对于所述光谱分析系统的校准状态的一个或多个变化的现场校准光谱，其中所述光源为具有频率扫描范围的频率可扫描激光器，其中，所述现场校准光谱的所述记录包括波长/频率校准器的使用；

导出转换函数，所述转换函数包括用于减小相对于所述光谱分析系统的校准状态的所述频率配准偏差的至少一个数学运算，并且其中，所述转换函数的所述导出包括拟合数学表达式以建模所述现场校准光谱中出现的光谱特征与所述波长/频率校准器提供的已知光谱标记之间的相对频率差；

转换利用所述光谱分析系统对包含样品流体的现场样品记录的现场光谱，所述转换包括把所述转换函数应用于所述现场光谱以产生转换的现场光谱数据，该转换的现场光谱数据包括与所述光谱分析系统的校正的频率响应配准的光谱数据，并且其中，用所述光谱分析系统所记录的所述现场光谱被均匀地转换成已知、充分表征的频率标度，使得吸光度特征被正确地配准到与所述光谱分析系统的校准状态下相同的频率；以及

使用所述转换的现场光谱数据来计算下述的一个或多个：所述现场样品的压力，所述现场样品的温度，以及所述现场样品中的一个或多个分析物的浓度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述转换函数的至少一个数学运算把所述现场光谱转换为关于频率是线性的。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述转换函数的至少一个数学运算减小相对于光谱分析系统的校准状态频率配准偏差的所述光谱分析系统的频率配准偏差。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述波长/频率校准器包括下述的至少一个：光学波长计，光学干涉仪，标准具，光学谐振器，频率梳，含有校准流体的参考室和或样品室，所述校准流体的吸收光谱提供多个单独可分辨率的频率标记。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述波长/频率校准器包括光学干涉仪，并且还包括用于内插干涉条纹并增加所述干涉仪的频率分辨率的锁相回路和频率合成器中的至少一个。

6.根据前述权利要求中的任一项所述的方法，还包括与所述现场校准光谱至少大致并行地记录所述现场光谱。

7.根据权利要求1所述的方法，其中，与所述现场校准光谱至少大致并行地记录现场光谱包括同时记录所述现场光谱和所述现场校准光谱。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述光谱分析系统包括分束器，所述分束器引导由所述光源发射的射束的第一部分，使得所述第一部分穿过所述样品流体并且传递至第一检测器，所述第一检测器用于表征在所述现场光谱中记录的、由所述第一部分与所述样品流体的相互作用引起的强度变化，所述分束器进一步引导所述射束的第二部分，使得所述第二部分穿过所述波长/频率校准器并且传递至第二检测器，所述第二检测器用于表征由所述第二部分与所述波长/频率校准器的相互作用引起的强度变化。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，所述光谱分析系统被配置为引导由所述光源发射的射束的至少第一部分，使得所述第一部分穿过所述样品流体并且传递至第一检测器，所述第一检测器用于表征在所述现场光谱中记录的、由所述第一部分与所述样品流体的相互作用引起的强度变化，并且其中，所述光谱分析系统包括波长/频率校准器，该波长/频率校准器被定位以接收从光源的至少一个第二反射器和/或所述光源的背刻面和/或由来自光源的高反射器泄漏发射的光，所述光谱分析系统还包括用于表征由所述光与所述波长/频率校准器的相互作用引起的强度变化的第二检测器。

10.根据权利要求6所述的方法，其中，与所述现场校准光谱至少大致并行地记录所述现场光谱包括交替地记录所述现场光谱和所述现场校准光谱。