[发明专利]制备光调制元件的方法

权利要求书

1.本发明涉及制备光调制元件的方法，其包括以下步骤

a)在两个基板之间提供包含一种或多种双介晶化合物、一种或多种手性化合物及一种或多种可聚合化合物的液晶介质层，其中至少一个基板对光是透明的，且在相对基板的两侧上提供电极，

b)将液晶介质加热至其各向同性相，

c)冷却该液晶介质直至低于清亮点10℃或更少，同时在该电极之间施加电压，其足以使该液晶介质在切换状态之间切换，

d)使所述液晶介质层暴露于诱导该可聚合化合物的光聚合的光辐射，同时在该电极之间施加电压。

2.根据权利要求1的方法，其特征在于将步骤b)中的该LC介质加热至高于该清亮点1℃或更多。

3.根据权利要求1或2的方法，其特征在于将LC介质冷却至低于该清亮点1℃或更少。

4.根据权利要求1至3中一项或多项的方法，其特征在于步骤c)中的所施加的电压高于步骤d)中的所施加的电压。

5.根据权利要求1至4中一项或多项的方法，其特征在于步骤c)中的电压为5至30V。

6.根据权利要求1至5中一项或多项的方法，其特征在于该LC介质中该可聚合化合物的比例为0.1至20％，且该LC介质中不可聚合液晶分子的比例为80至99.9％。