[发明专利]玻璃制造设备和方法

说明书

本申请依据35U.S.C.§119要求于2015年4月29日提交的序列号为62/154385的美国临时申请的优先权，本申请以其内容为基础，并通过参考将其全文纳入本文。

背景

已知向玻璃制造设备提供一定量的熔料，所述熔料包含位于玻璃制造设备的熔料处理工位内的自由表面。所述自由表面的液位可基于各种条件来确定，例如熔料的体积流速、熔料的组成以及大气压。

发明概述

下文对本公开进行了简单的小结以提供对于详述中所描述的一些示例性的方面的基本理解。

本公开总体上涉及玻璃制造设备以及方法，更具体而言，涉及包含输送容器的玻璃制造设备、以及在使熔料处理工位内的熔料的自由表面偏流至工作液位的同时制造玻璃的方法。

根据第一种实施方式，一种制造玻璃的方法，所述方法包括步骤(I)：通过向熔料的自由表面施加大于或小于大气压的压力来使输送设备内的熔料的自由表面偏流至工作液位。所述方法还包括步骤(II)：在使所述自由表面偏流至所述工作液位的同时，将熔料从所述输送设备输送至成形容器。

在一种实施方式中，步骤(I)包括向自由表面施加大于大气压的压力，以使工作液位低于自由表面在大气压下会到达的参比液位。

在另一种实施方式中，步骤(I)包括向自由表面施加小于大气压的压力，以使工作液位高于自由表面在大气压下会到达的参比液位。

在另一种实施方式中，步骤(I)包括将工作液位保持在预定工作液位范围内。

在另一种实施方式中，所述方法还包括测量输送设备内的熔料自由表面的实际液位的步骤，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以使熔料的自由表面从实际液位偏流至工作液位。

在另一种实施方式中，所述方法还包括改变熔料组成的步骤，所述步骤改变自由表面在大气压下会到达的参比液位，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以补偿熔料组成的改变。

在另一种实施方式中，所述方法还包括改变熔料通过输送设备的体积流速的步骤，所述步骤改变自由表面在大气压下会到达的参比液位，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以补偿熔料体积流速的改变。

在另一种实施方式中，所施加的压力具有大于0kPa且小于或等于3.5kPa的绝对值。

根据第二种实施方式，一种制造玻璃的方法包括步骤(I)：通过向上游熔料工位内的熔料的自由表面施加大于或小于大气压的压力来使熔料的自由表面偏流至工作液位，所施加的压力与大气压相差大于0kPa且小于或等于3.5kPa的绝对值。所述方法随后包括步骤(II)：在使自由表面偏流至工作液位的同时，将熔料从上游熔料处理工位输送至下游熔料处理工位。

在一种实施方式中，步骤(I)包括向自由表面施加大于大气压的压力，以使工作液位低于自由表面在大气压下会到达的参比液位。

在第二种实施方式的另一种实施方式中，步骤(I)包括向自由表面施加小于大气压的压力，以使工作液位高于自由表面在大气压下会到达的参比液位。

在另一种实施方式中，步骤(I)包括将工作液位保持在预定工作液位范围内。

在另一种实施方式中，所述方法还包括测量输送设备内的熔料自由表面的实际液位的步骤，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以使熔料的自由表面从实际液位偏流至工作液位。

在另一种实施方式中，所述方法还包括改变熔料组成的步骤，所述步骤改变自由表面在大气压下会到达的参比液位，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以补偿熔料组成的改变。

在另一种实施方式中，所述方法还包括改变熔料通过输送设备的体积流速的步骤，所述步骤改变自由表面在大气压下会到达的参比液位，且步骤(I)包括对施加于熔料自由表面的压力进行调节，以补偿熔料体积流速的改变。

在另一种实施方式中，上游熔料处理工位选自下组：澄清容器、混合容器以及输送设备。

根据第三种实施方式，一种玻璃制造设备包含成形容器和输送设备，所述成形容器配置成由熔料形成玻璃，所述输送设备包含配置成将熔料从上游熔料处理工位输送至成形容器的内体积，且熔料包含位于输送设备内体积内的自由表面。所述玻璃制造设备还包括与输送设备的内体积流体相连的压力源。所述压力源配置成向位于输送设备内体积内的自由表面施加大于或小于大气压的压力，以使熔料的自由表面偏流至工作液位。