[发明专利]液体处理系统和方法

权利要求书

1.一种液体处理系统，包括：

液体源；

化学处理站，用于测试所述液体源的源液的化学成分，并且若有必要，对所述液体进行适量的化学处理以提供化学处理液；

纳米气泡发生器，与所述化学处理站流体连通，所述纳米气泡发生器在所述化学处理液中产生纳米气泡以提供纳米气泡液体；

辐射消毒单元(RDU)，与所述纳米气泡发生器流体连通，所述辐射消毒单元将所述纳米气泡液体暴露于辐射中，并提供经过处理的液体；

泵，用于产生流经所述系统的液体；以及

出口，所述经过处理的液体经所述出口流出。

2.根据权利要求1所述的液体处理系统，其中所述纳米气泡发生器包括：

壳体，所述壳体具有流入部，用于接收所述源液；

流出部，用于释放含有纳米气泡的液体；以及

处理部，设置在所述流入部与流出部之间，并用于处理所述源液，所述处理部具有至少两个连续剪切面，所述连续剪切面由空化空间、室或区间隔开。

3.根据权利要求1或2所述的液体处理系统，其中所述RDU包括：

RDU入口，可操作地连接至所述纳米气泡发生器；

消毒单元，与RDU入口流体连通并包括外壳和辐射发射装置；以及

RDU出口，用于从所述消毒单元释放经辐射处理的液体。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的液体处理系统，其中所述测试所述液体源的源液的化学成分包括确定所述源液是否含有适量的化学品，所述化学品用于与纳米气泡发生器和RDU一起对所述源液进行消毒。

5.根据权利要求4所述的液体处理系统，其中所述化学品包括二氧化氯。

6.根据权利要求5所述的液体处理系统，其中向所述纳米气泡发生器注入所述二氧化氯约0.5-5ppm。

7.根据权利要求6所述的液体处理系统，其中向所述纳米气泡发生器注入所述二氧化氯约3-4ppm。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的液体处理系统，其中，所述泵在所述纳米气泡发生器处产生约1-10巴之间的压力。

9.根据权利要求3-8中任一项所述的液体处理系统，其中，所述辐射是紫外辐射。

10.一种处理液体的方法，所述方法包括使源液流经如权利要求1-9中任一项所述的液体处理系统。

11.一种处理液体的方法，所述方法包括：

接收经过化学处理的液体；

使所述经过化学处理的液体流经纳米气泡发生器以产生含有纳米气泡的液体；

使用消毒辐射处理所述含有纳米气泡的液体以产生所得液体；以及

释放所述所得液体以供使用。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述经过化学处理的液体包括暴露于化学处理以产生所述经过化学处理的液体的源液。

13.根据权利要求12所述的方法，其中所述化学处理包括将适量的化学品注入所述源液中。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述适量包括用于与所述纳米气泡发生器和所述消毒辐射结合以对所述源液进行消毒的化学品的量。

15.根据权利要求11-14中任一项所述的方法，其中所述液体在所述纳米气泡发生器处在约1-10巴之间的压力下被驱动。

16.根据权利要求11-15中任一项所述的方法，其中所述辐射是紫外辐射。

17.根据权利要求16所述的方法，其中所述紫外辐射以约250mJ/cm²递送。

18.根据权利要求1-17中任一项所述的系统或方法，其中所述源液是水，包括饮用水、废水和循环水。

19.一种液体处理系统，参考附图并如附图所示，其为在此大体描述和和具体描述的处理液体系统。

20.一种处理液体的方法，参考附图并如附图所示，其为在此大体描述和具体描述的处理液体的方法。