[发明专利]基材表面的装饰方法以及利用该方法得到的制品在审

专利信息
申请号: 201680035980.6 申请日: 2016-06-15
公开(公告)号: CN107787309A 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: B·A·巴泽莫;M·J·德内卡;M·W·芬顿;金宇辉;C·M·史密斯 申请(专利权)人: 康宁股份有限公司
主分类号: C03C15/00 分类号: C03C15/00;B24B37/04;B44C1/22
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司31100 代理人: 高宏伟,乐洪咏
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 基材 表面 装饰 方法 以及 利用 得到 制品
【说明书】:

本申请依据35 U.S.C.§119要求于2015年6月19日提交的系列号为62/182030的美国临时申请的优先权,本文以该申请的内容为基础并通过引用将其全文纳入本文。

相关申请的交叉引用

本申请涉及共同拥有和受让的提交于2012年11月2日的题为《不透明、着色和半透明材料的纹理化方法》(METHODS TO TEXTURE OPAQUE,COLORED AND TRANSLUCENT MATERIALS)的美国发明申请:USSN61/721797,其中提到了一种对玻璃-陶瓷制品的表面进行改性的方法,所述方法包括提供具有未损伤表面和初始光泽度值的玻璃-陶瓷制品;向玻璃-陶瓷制品的未损伤表面施加化学蚀刻溶液,以进行约5秒至小于15分钟的蚀刻;以及除去化学蚀刻溶液,本申请还涉及提交于2014年10月14日的题为《在基材上印刷装饰的方法》(METHOD OF PRINTING DECORATIONS ON SUBSTRATES)的USSN 14513407,其中提到了一种在基材上印刷装饰的方法,包括:利用喷墨印刷在基材上以预定设计施加油墨涂层,本申请还涉及联合拥有和受让的提交于2012年11月28日的题为《纹理化表面和制造和使用该纹理化表面的方法》(TEXTURED SURFACES AND METHODS OF MAKING AND USING SAME)的第9023457号美国专利,其中提到了用于制造具有改善的防指纹性的纹理化制品的方法及其使用方法。这些方法总体上使用包含纳米结构化的含金属特征的遮蔽物来生成也包含纳米结构化特征的纹理化表面。本申请不要求共同或联合拥有和受让的相关专利文件。

通过引用将本文所提及的各出版物或专利文件的全部公开内容纳入本文。

背景

本公开涉及表面的装饰方法以及利用该方法制得的制品。

概述

在一些实施方式中,本公开提供了一种经过装饰的制品以及一种经过装饰的制品的制造方法。所述经过装饰的制品可在光泽基材或哑光精整(“粗切”)基材上,例如在制品的至少一个表面上具有美观的特征或多个特征,且这些美观的特征可具有一种或更多种对比水平,例如多对比水平。

附图说明

在本公开的实施方式中:

图1显示了本文公开的一种经过装饰的制品的制造方法的总结。

图2A至2G显示了利用本文公开的条件蚀刻成不同灰度的光泽基材试样。

图3A至3D显示了选自图2的本文公开的经过装饰的光泽基材部件的反射光谱和颜色。

图4A和4B分别为用于生成在光泽表面(4A)或粗切表面(4B)上具有多对比水平的美观特征的示例性工艺的示意性总结。

图5A至5D显示了由本文公开的方法制得的美观或经过装饰的光泽基材表面的例子。

图6显示了在光泽基材表面上的图5B(右侧)中所示的星形图案的Zygo图像。

图7显示了光泽基材表面在本文公开的方法图案化步骤之前(右侧)和之后(左侧)的环叠环(RoR)和磨损环叠环(aRoR)结果。

图8显示了柱状图,它证明了可由抛光试样或粗切试样(即,未抛光的试样)开始,随后使用本文公开的蚀刻方法在表面上制造灰度图案,而不会显著损失制品强度。

图9显示了含有氟化铵和氢氟酸的蚀刻剂组合物的等值线图,所述蚀刻剂组合物可被用于随时间得到所需的光泽度水平。

图10显示了用于蚀刻白色陶瓷基材以得到不同光泽度的含有HF和硫酸的蚀刻剂的光泽度60随时间而变化的图线。

发明详述

下面参考附图(如果有的话)对本公开的各种实施方式进行详细描述。参考各种实施方式不限制本公开的范围,本公开的范围仅受所附权利要求书的范围限制。此外,在本说明书中列出的任何实施例都不是限制性的,且仅列出要求保护的发明的诸多可能的实施方式中的一些实施方式。

定义

本文所使用的“光泽基材”“光泽表面”等术语是指,例如具有光泽特征的玻璃、玻璃-陶瓷、陶瓷或它们的组合中的至少一种,例如具有50光泽度单位(GU)或更高、例如55或更高、例如55至90GU(包括中间数值和范围)的光泽度60值的基材、组件或部件,所述光泽度范围是利用60°光泽计程序测量的。可利用所选入射角度,例如60°(例如半光泽度:-10至70GU)、20°(例如高光泽度:大于70GU)和85°(例如低光泽度:小于10GU)来测量光泽度范围,这取决于光泽度的水平(参见gloss-meters.com/GlossIntro2.htm)。

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