[发明专利]量测方法和设备、计算机程序及光刻系统

权利要求书

1.一种测量光刻工艺的参数的方法，所述方法包括如下步骤：

获得多个第一测量，所述第一测量包括与多个第一结构有关的结构不对称性的测量，所述多个第一测量包括对应于在至少测量辐射方面不同的不同测量组合的测量；

获得多个第二测量，所述第二测量包括与多个目标有关的目标不对称性的测量，所述多个第二测量中的每个第二测量在所述测量组合方面对应于所述多个第一测量中的一个第一测量，所述目标中的每个目标包括所述第一结构中的一个第一结构和重叠在其上的第二结构，所述目标不对称性包括独立于结构不对称性的重叠贡献，和归因于至少所述第一结构中的结构不对称性的结构贡献；

针对所述测量组合中的每一个，确定描述所述第一测量与所述第二测量之间的关系的关系函数；

从所述关系函数确定校正重叠值，所述校正重叠值针对归因于至少所述第一结构中的结构不对称性的所述结构贡献被校正。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述测量组合还在至少第一参数的值方面不同。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述至少一个第一参数与衬底的表面上的位置有关。

4.根据权利要求2或3所述的方法，其中所述方法包括：

确定在对应的关系函数方面使对应的成对的所述第一测量和所述第二测量有关的联立方程；以及

求解所述联立方程以获得所述关系函数的解，所述关系函数的每个解对应于特定的测量辐射。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述联立方程中的每一个方程还在独立于结构不对称性的所述重叠贡献方面使对应的成对的所述第一测量和所述第二测量有关。

6.根据权利要求5所述的方法，其中求解所述联立方程包括获得独立于结构不对称性的所述重叠贡献的值。

7.根据权利要求4所述的方法，其中所述测量组合具有充分的数目，使得联立方程的数目大于所求解的未知数的数目，所述未知数包括所述关系函数的解。

8.根据权利要求4所述的方法，其中关系函数是参数的线性函数并且所述联立方程通过矩阵法来求解。

9.根据权利要求8所述的方法，其中所述矩阵法包括构建所述第二测量的第一矩阵、构建包括所述第一测量的矩阵系数和针对各联立方程求解包括关系函数的未知数的矩阵。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述未知数的矩阵包括与独立于结构不对称性的所述重叠贡献有关的参数，与独立于结构不对称性的所述重叠贡献有关的所述参数独立于所述测量辐射且依赖于所述至少第一参数。

11.根据权利要求9或10所述的方法，其中所述矩阵系数的轶大于所求解的未知数的数目。

12.根据权利要求1-3和5-10中的任一项所述的方法，其中针对所述测量组合的每个测量组合获得校正重叠值。

13.根据权利要求1-3和5-10中的任一项所述的方法，包括确定优选测量辐射，所述方法进一步包括：

针对用来获得所述第一测量和所述第二测量的各测量辐射，确定一组校正重叠值；

确定描述独立于结构不对称性的所述重叠贡献的一组独立于测量选配方案的重叠值；

确定多个差异度量，各差异度量与所述测量辐射的不同子集有关，所述差异度量描述所述一组独立于测量选配方案的重叠值和被包括在所述测量辐射的该子集内的不同成对的校正重叠值组的对应重叠值之间的差异。

14.根据权利要求13所述的方法，其中对应的重叠值包括对应于衬底上的相同位置的重叠值。