[发明专利]单分散IR吸收纳米颗粒以及相关方法和装置在审

专利信息
申请号: 201680033386.3 申请日: 2016-06-10
公开(公告)号: CN107636431A 公开(公告)日: 2018-01-26
发明(设计)人: 弗兰基·索;金渡泳;李在雄;布哈本德拉·K·普拉丹 申请(专利权)人: 佛罗里达大学研究基金会有限公司;纳米控股有限公司
主分类号: G01J1/04 分类号: G01J1/04;G01J1/42;G01J1/58
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 蔡胜有,苏虹
地址: 美国佛*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 分散 ir 吸收 纳米 颗粒 以及 相关 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种装置,包括:

包含多个纳米晶体的层,其中所述多个纳米晶体的平均最大截面尺寸为约2nm或更大,其相对标准偏差为约10%或更小,其中所述多个纳米晶体能够吸收波长为至少约700nm的电磁辐射。

2.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中至少部分所述多个纳米晶体为量子点。

3.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中至少部分所述多个纳米晶体包含PbS和/或PbSe。

4.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中基本上所有的所述纳米晶体包含PbS和/或PbSe。

5.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述相对标准偏差为约5%或更小。

6.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述相对标准偏差为约1%或更小。

7.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述相对标准偏差为约1%至约10%。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述平均最大截面尺寸为约10nm或更大。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述平均最大截面尺寸为约20nm或更大。

10.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述平均最大截面尺寸为约2nm至20nm。

11.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体能够吸收波长为至少约1微米的电磁辐射。

12.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体能够吸收波长为至少约2微米的电磁辐射。

13.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体能够吸收波长为至少约3.5微米的电磁辐射。

14.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体能够吸收波长为约700nm至约3.5微米的电磁辐射。

15.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体具有FWHM为约400nm或更小的吸收峰。

16.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体具有FWHM为约100nm或更小的吸收峰。

17.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述多个纳米晶体具有FWHM为约10nm至约400nm的吸收峰。

18.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述装置为IR光电探测器。

19.根据前述权利要求中任一项所述的装置,还包括空穴阻挡层。

20.根据权利要求19所述的装置,其中所述空穴阻挡层包含有机材料。

21.根据权利要求20所述的装置,其中所述空穴阻挡层包含BCP、UGH2、BPhen、Alq3、mCP、C60、和/或3TPYMB。

22.根据权利要求19所述的装置,其中所述空穴阻挡层包含无机材料。

23.根据权利要求22所述的装置,其中所述无机材料包含ZnO、TiO2、SiO、SiO2、Si3N4、和/或Al2O3

24.根据前述权利要求中任一项所述的装置,还包括电子阻挡层。

25.根据权利要求24所述的装置,其中所述电子阻挡层包含TAPC、NPB、TPD、TPB、聚-TPD、PS-TPD-PFCB、NiO、和/或CuO。

26.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述装置为IR-至-可见光上转换装置。

27.根据前述权利要求中任一项所述的装置,还包括OLED。

28.根据权利要求27所述的装置,其中所述OLED包括发光层、空穴传输层、和电子传输层。

29.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述装置为IR太阳能电池。

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