[发明专利]电接触元件和改变其至少一个区域的机械和/或电性能的方法

权利要求书

1.一种由导电接触材料(3)制成的电接触元件(1)，其特征在于，所述接触元件(1)包括至少一个区域(15)，颗粒(17)以粘附的方式布置在所述区域上，所述颗粒的至少一部分已经穿刺到所述接触材料(3)的至少一些部分中，其中，在所述至少一个区域(15)中，所述颗粒(17)的至少一部分通过使用高能束轰击而至少部分地彼此熔合，所述接触元件(1)具有至少一个压接部分(7)，所述至少一个区域(15)与所述压接部分至少部分地重叠，其中，压接部分(7)具有基本表面结构(11)，所述颗粒(17)至少部分地穿刺到所述基本表面结构中，其中，基本表面结构(11)由凹槽(13)形成，所述凹槽垂直于电接触元件(1)的纵向方向布置。

2.如权利要求1所述的电接触元件(1)，其特征在于，所述接触元件具有用于连接到配合接触元件的至少一个接触表面(5)，其中所述至少一个区域(15)与所述至少一个接触表面(5)至少部分地重叠。

3.如权利要求1或2所述的电接触元件(1)，其特征在于，所述至少一个区域(15)具有的表面粗糙度大于没有颗粒(17)的相邻区域中的表面粗糙度。

4.如权利要求1或2所述的电接触元件(1)，其特征在于，在所述至少一个区域(15)中，所述颗粒(17)的至少一部分至少部分地彼此连接。

5.如权利要求1或2所述的电接触元件(1)，其特征在于，在所述至少一个区域(15)中，所述颗粒(17)的至少一部分在所述接触材料(3)上布置为若干层。

6.如权利要求1或2所述的电接触元件(1)，其特征在于，所述颗粒(17)至少部分地彼此穿刺。

7.一种改变由导电接触材料(3)制造的电接触元件(1)的至少一个区域(15)的机械和/或电性能的方法，其特征在于，所述接触元件(1)具有至少一个压接部分(7)，所述至少一个区域(15)与所述压接部分至少部分地重叠，其中：

在压接部分(7)形成基本表面结构(11)，基本表面结构(11)由凹槽(13)形成，且所述凹槽垂直于电接触元件(1)的纵向方向布置，

将颗粒(17)以每秒500米到每秒1000米之间的速度沉积到所述接触元件(1)的至少一个区域(15)上，其中所述颗粒(17)的至少一部分至少部分地穿刺到基本表面结构(11)中，且所述颗粒(17)的至少一部分通过使用高能束轰击而至少部分地彼此熔合，且其中，在沉积所述颗粒(17)之后，所述接触元件(1)的至少一些部分被高能射线加热。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，所述颗粒(17)在气流中被输送。

9.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于，所述颗粒(17)具有的直径(29)在1和50μm之间。

10.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在沉积所述颗粒(17)之后，所述接触元件(1)的至少一些部分被加热。

11.如权利要求7或8所述的方法，其特征在于使用掩模，所述掩模允许所述颗粒(17)仅到达未被所述掩模覆盖的那些部分。