[发明专利]用于对磷酸锆和氧化锆模块进行再装填的再装填器

权利要求书

1.一种吸附剂再装填器，包含：

至少一个用于第一吸附剂模块的第一收纳隔室；所述第一收纳隔室具有第一吸附剂模块入口和第一吸附剂模块出口；

一个或多个流体源，所述流体源通过第一组一个或多个流体连接器而流体地连接到所述第一吸附剂模块入口；

一个或多个泵，所述泵定位在所述一个或多个流体连接器上以用于将来自所述一个或多个流体源的流体泵送到所述第一吸附剂模块入口；第一流出物管线，所述第一流出物管线流体地连接到所述第一吸附剂模块出口；

至少一个用于第二吸附剂模块的第二收纳隔室；所述第二收纳隔室具有第二吸附剂模块入口和第二吸附剂模块出口；

一个或多个流体源，所述流体源通过第二组一个或多个流体连接器而流体地连接到所述第二吸附剂模块入口；和

一个或多个泵，所述泵定位在所述一个或多个流体连接器上以用于将来自所述一个或多个流体源的流体泵送到所述第二吸附剂模块入口；以及

第二流出物管线，所述第二流出物管线流体地连接到所述第二吸附剂模块出口，

其中所述第一流出物管线和所述第二流出物管线流体地连接到排放管线；并且其中所述排放管线可流体连接到排放口、共用储槽或其组合中的任一个。

2.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述第一吸附剂模块是磷酸锆模块。

3.根据权利要求2所述的吸附剂再装填器，其中所述一个或多个流体源是水源、消毒剂源和盐水源中的任一个。

4.根据权利要求3所述的吸附剂再装填器，其中所述盐水源含有氯化钠、乙酸钠、乙酸以及其组合的溶液中的任一种。

5.根据权利要求4所述的吸附剂再装填器，其中氯化钠的浓度在2.5M与4.9M之间，乙酸钠的浓度在0.3M与1.1M之间，并且乙酸的浓度在0.2M与0.8M之间。

6.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述第二吸附剂模块是氧化锆模块。

7.根据权利要求6所述的吸附剂再装填器，其中所述一个或多个流体源是水源、消毒剂源、碱源以及其组合中的任一个。

8.根据权利要求7所述的吸附剂再装填器，其中所述碱源含有浓度在0.5M与2.0M之间的氢氧化钠。

9.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述第一吸附剂模块是磷酸锆模块；并且所述第二吸附剂模块是氧化锆模块。

10.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述第一吸附剂模块是氧化锆模块；并且所述第二吸附剂模块是磷酸锆模块。

11.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述第一和第二吸附剂模块各自是磷酸锆模块或各自是氧化锆模块。

12.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，进一步包含至少一个模块旁路管线；其中所述模块旁路管线定位在所述第一吸附剂模块入口的上游并且流体地连接到所述第一流出物管线。

13.根据权利要求12所述的吸附剂再装填器，进一步包含至少一个第二模块旁路管线；其中所述第二模块旁路管线定位在所述第二吸附剂模块入口的上游并且流体地连接到所述流出物管线。

14.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中所述排放管线具有静态混合器。

15.根据权利要求1所述的吸附剂再装填器，其中满足以下中的任一个或两个：

所述第一吸附剂模块入口可流体连接到所述第一吸附剂模块出口；和

所述第二吸附剂模块入口可流体连接到所述第二吸附剂模块出口。