[发明专利]干涉式测量布置

权利要求书

1.测量布置，所述测量布置干涉式地确定微光刻的光学元件的形式的测试对象的表面的形状，所述测量布置包括：

-光源，所述光源提供输入波；

-衍射光学元件，所述衍射光学元件布置在所述输入波的束路径中，并且包含衍射结构或两个衍射结构图案以通过就绝对值而言为第一级或更高级的衍射从所述输入波分别产生测试波和参考波，所述测试波指向所述测试对象并且具有至少部分适配于所述光学表面的期望形状的波前，并且所述参考波具有偏离所述测试波的传播方向的传播方向；

其中，所述衍射结构配置为在衍射的第一级中产生所述测试波，并且在衍射的其他级数中产生所述参考波，以及

其中，所述两个衍射结构图案布置为使得它们在平面中彼此叠加，所述衍射结构图案中的一个配置为产生所述测试波，且所述衍射结构图案的另一个配置为产生所述参考波，

-反射光学元件，所述反射光学元件布置在所述参考波的束路径中，并且配置为用于所述参考波的背向反射。

-捕获装置，其在捕获平面中捕获干涉图，该干涉图由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波分别在所述衍射光学元件处的进一步衍射后的叠加而产生。

2.如权利要求1所述的测量布置，

所述测量布置配置为使得，在所述进一步衍射时，所述测试波以一衍射级数在所述衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在所述衍射光学元件处发生衍射以产生所述测试波时的所述输入波的衍射级数相同。

3.如权利要求1或2所述的测量布置，

所述测量布置配置为使得，在所述进一步衍射时，所述参考波以一衍射级数在所述衍射光学元件处衍射，所述衍射级数与在所述衍射光学元件处发生衍射以产生所述输入波时的所述输入波的衍射级数相同。

4.如权利要求1或2所述的测量布置，

所述测量布置配置为使得，从所述输入波通过在所述衍射光学元件处的衍射产生的所述参考波的传播方向相对于所述输入波的传播方向以大于1°倾斜。

5.如权利要求1或2所述的测量布置，

其中，在所述衍射光学元件处的进一步衍射时，由与所述测试对象相互作用后的所述测试波和所述背向反射的参考波的叠加产生回波，并且其中所述测量布置配置为使得所述回波的传播方向相对于所述输入波的反向传播方向以小于1°倾斜。

6.如权利要求1或2所述的测量布置，

所述测量布置配置为使得，在所述衍射光学元件处的进一步衍射之后的所述测试波的波前与最佳适配于所述输入波的波前的球面波前偏离至多10μm。

7.如权利要求1或2所述的测量布置，具有：

其中产生所述参考波的衍射结构图案还配置为将所述参考波的波前适配于所述反射光学元件的形状，使得将所述参考波背向反射到所述衍射元件。

8.如权利要求1或2所述的测量布置，其中安装所述反射光学元件，使得所述反射光学元件相对于垂直于所述参考波的传播方向布置的轴线是可倾斜的。

9.如权利要求1或2所述的测量布置，

其中安装所述反射光学元件，使得所述反射光学元件沿着所述参考波的传播方向是可位移的。