[发明专利]调制图案计算装置、光控制装置、调制图案计算方法、调制图案计算程序以及存储介质有效
申请号: | 201680027961.9 | 申请日: | 2016-05-11 |
公开(公告)号: | CN107533246B | 公开(公告)日: | 2021-07-02 |
发明(设计)人: | 渡边向阳;井上卓;高桥考二 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02F1/01 | 分类号: | G02F1/01;G02F1/13;G02F1/133 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制 图案 计算 装置 控制 计算方法 程序 以及 存储 介质 | ||
1.一种调制图案计算装置,其特征在于:
是计算呈现于为了使光的时间强度波形接近所期望的波形而调制输入光的强度谱的空间光调制器的调制图案的装置,
具备:
迭代傅里叶变换部,对包含强度谱函数以及相位谱函数的频域的波形函数进行傅里叶变换,在该傅里叶变换后的时域中进行了基于所述所期望的波形的时间强度波形函数的置换之后进行傅里叶逆变换,在该傅里叶逆变换后的所述频域中进行用于约束所述相位谱函数的置换;
滤波处理部,相对于对所述傅里叶逆变换后的所述频域中的所述强度谱函数乘以用于标准化的系数后的标准化强度谱函数,进行去除超过根据所述输入光的强度谱决定的每个波长的截止强度的部分的滤波处理;以及
调制图案计算部,根据所述滤波处理后的所述标准化强度谱函数,计算出所述调制图案,
所述系数是大于0且小于等于1的实数。
2.如权利要求1所述的调制图案计算装置,其特征在于:
反复进行由所述迭代傅里 叶变换部进行的处理、以及由所述滤波处理部进行的处理,
所述调制图案计算部根据由所述反复后的所述滤波处理获得的所述标准化强度谱函数,计算出所述调制图案。
3.如权利要求1或者2所述的调制图案计算装置,其特征在于:
所述滤波处理中的所述每个波长的截止强度与所述输入光的强度谱一致。
4.如权利要求1或者2所述的调制图案计算装置,其特征在于:
所述系数是使由所述标准化强度谱函数表示的强度谱的最大值与所述输入光的强度谱的最大值相等的值。
5.如权利要求3所述的调制图案计算装置,其特征在于:
所述系数是使由所述标准化强度谱函数表示的强度谱的最大值与所述输入光的强度谱的最大值相等的值。
6.一种光控制装置,其特征在于:
具备:
权利要求1~5中的任意一项所述的调制图案计算装置;
输出所述输入光的光源;
对所述输入光进行分光的分光元件;
调制分光后的所述输入光的强度谱并输出调制光的所述空间光调制器;以及
对所述调制光进行聚光的光学系统,
所述空间光调制器呈现由所述调制图案计算装置计算出的所述调制图案。
7.一种调制图案计算方法,其特征在于:
是计算呈现于为了使光的时间强度波形接近所期望的波形而调制输入光的强度谱的空间光调制器的调制图案的方法,
具备:
对包含强度谱函数以及相位谱函数的频域的波形函数进行傅里叶变换的步骤;
在该傅里叶变换后的时域中进行了基于所述所期望的波形的时间强度波形函数的置换之后进行傅里叶逆变换的步骤;
在该傅里叶逆变换后的所述频域中进行用于约束所述相位谱函数的置换的步骤;
相对于对所述傅里叶逆变换后的所述频域中的所述强度谱函数乘以用于标准化的系数后的标准化强度谱函数,进行去除超过根据所述输入光的强度谱决定的每个波长的截止强度的部分的滤波处理的步骤;以及
根据所述滤波处理后的所述标准化强度谱函数,计算出所述调制图案的步骤,
所述系数是大于0且小于等于1的实数。
8.如权利要求7所述的调制图案计算方法,其特征在于:
反复进行进行所述傅里叶变换的步骤、进行所述傅里叶逆变换的步骤、进行所述置换的步骤、以及进行所述滤波处理的步骤,
在计算所述调制图案的步骤中,根据由所述反复后的所述滤波处理获得的所述标准化强度谱函数,计算出所述调制图案。
9.如权利要求7或者8所述的调制图案计算方法,其特征在于:
所述滤波处理中的所述每个波长的截止强度与所述输入光的强度谱一致。
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