[发明专利]使用具有低吸收特性的激光波长来移除透明材料的方法

权利要求书

1.一种选择性剥蚀光学透明材料的方法，所述光学透明材料覆盖器件的金属层，所述方法包含以下步骤：

在金属层上提供光学透明材料层；以及

使用失焦激光束照射所述光学透明材料层的一部分及剥蚀所述光学透明材料层的所述部分；

其中所述剥蚀让所述金属层完全未受损伤，并且其中所述激光具有在355nm至1070nm范围内的波长。

2.一种选择性剥蚀光学透明材料的方法，所述光学透明材料覆盖器件的金属层，所述方法包含以下步骤：

在金属层上提供光学透明材料层；以及

使用成形激光束照射所述光学透明材料层的一部分及剥蚀所述光学透明材料层的所述部分；

其中所述剥蚀让所述金属层完全未受损伤，并且其中所述激光具有在355nm至1070nm范围内的波长。

3.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中来自所述激光束的激光单次通过所述光学透明材料层时，所述光学透明材料层吸收少于或等于50％的所述激光。

4.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中来自所述激光束的激光单次通过所述光学透明材料层时，所述光学透明材料层吸收少于或等于20％的所述激光。

5.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述光学透明材料层为封装层。

6.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述光学透明材料层包含聚对二甲苯。

7.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述光学透明材料包含聚对二甲苯-C，并且其中所述光学透明材料层在10微米至20微米厚的范围内。

8.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述激光束由355nm激光器形成，并且所述激光束在所述光学透明材料层处提供在4x10⁸Jm^-2s^-1至6x10⁸Jm^-2s^-1范围中的剂量率。

9.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述电化学器件为薄膜固态电池。

10.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述照射的步骤包含使所述激光束多次扫描通过所述光学透明材料层的所述部分。

11.如权利要求1或权利要求2所述的方法，其中所述金属层为薄膜固态电池的集电器。

12.如权利要求11所述的方法，其中所述金属层包含选自由金、铂、钛和铜所组成的群组的至少一种金属。

13.一种用于形成薄膜电化学器件的设备，包含：

第一系统，用于在基板上覆盖沉积阴极集电器层、阴极层、电解质层、阳极层和阳极集电器层的堆叠；

第二系统，用于激光冲模图案化所述堆叠以形成多个冲模图案化的堆叠；

第三系统，用于激光图案化所述多个冲模图案化的堆叠以显露每个所述多个冲模图案化的堆叠的所述阴极集电器层和所述阳极集电器层中的至少一者的接触区域，从而形成多个器件堆叠；

第四系统，用于在所述多个器件堆叠上沉积覆盖封装层；以及

第五系统，用于激光剥蚀所述覆盖封装层以显露每个所述多个器件堆叠的所述阴极集电器层和所述阳极集电器层的接触区域，从而形成多个封装器件堆叠；

其中所述封装层为光学透明的，其中用于激光剥蚀的所述第五系统包含提供激光的激光器，所述激光的波长在355nm至1070nm的范围内，并且其中用于激光剥蚀的所述第五系统被配置为提供选自由失焦激光束和成形激光束所组成的群组的激光束。

14.如权利要求13所述的设备，其中所述激光束由355nm激光器形成，并且所述激光束在所述覆盖封装层处提供在4x10⁸Jm^-2s^-1至6x10⁸Jm^-2s^-1范围中的剂量率。

15.如权利要求13所述的设备，其中所述设备为排队式设备。