[发明专利]光学系统有效

专利信息
申请号: 201680026279.8 申请日: 2016-04-25
公开(公告)号: CN107635501B 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: B·W·M·莫伊斯科普斯 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: A61B18/20 分类号: A61B18/20
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 郑立柱;郑振
地址: 荷兰艾恩*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光学系统
【权利要求书】:

1.一种光学系统(1),包括:

多个光学部件;

脉冲生成装置(3),被配置为沿着穿过所述光学部件的处理脉冲光路生成处理脉冲;

所述脉冲生成装置还被配置为沿着穿过所述光学部件延伸的探测脉冲光路生成探测脉冲;

传感器(8),被配置为生成指示已经沿着所述探测脉冲光路穿过所述光学部件的所述探测脉冲的光学特性的信息,其中由所述传感器(8)生成的所述信息指示在所述处理脉冲光路(2)中的任何障碍物(9);以及

控制器(5),被配置为控制所述脉冲生成装置(3),以根据所述传感器(8)生成的所述信息来沿着所述处理脉冲光路(2)选择性地发射所述处理脉冲。

2.根据权利要求1所述的光学系统(1),其中,所述障碍物(9)是污染物,或者其中所述障碍物(9)是皮肤表面(22)。

3.根据权利要求1或者权利要求2所述的光学系统(1),其中,所述脉冲生成装置(3)被配置为生成脉冲能量大于所述探测脉冲的脉冲能量的处理脉冲。

4.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述探测脉冲光路被配置为与所述处理脉冲光路(2)的至少一部分重合。

5.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述脉冲生成装置(3)包括被配置为生成所述处理脉冲的处理脉冲生成器、以及被配置为生成所述探测脉冲的探测脉冲生成器。

6.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述脉冲生成装置(3)被配置为在所述探测脉冲的10ms内生成所述处理脉冲。

7.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述脉冲生成装置(3)被配置为生成时间间隔小于10ms的连续探测脉冲。

8.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述控制器(5)被配置为:将所述传感器(8)测得的特性与预定值比较,并且如果所感测的特性与所述预定值匹配,则发射所述处理脉冲。

9.根据权利要求1至2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述控制器(5)被配置为:将所述传感器(8)测得的特性与预定范围比较,并且如果所感测到的特性落在所述预定范围内,则发射所述处理脉冲。

10.根据权利要求1或2中任一项所述的光学系统(1),其中,所述传感器(8)位于所述光路(2)的结束处。

11.一种激光处理装置(20),所述激光处理装置(20)包括根据前述权利要求中任一项所述的光学系统(1)。

12.根据权利要求11所述的激光处理装置(20),其中所述处理脉冲光路(2)的一部分跨越所述激光处理装置中的凹部(26)、与跨所述凹部延伸的平面(27)平行,其中皮肤接合面位于所述凹部中。

13.根据权利要求11所述的激光处理装置(20),其中所述处理脉冲光路(2)的一部分跨越所述激光处理装置中的凹部(26)、与跨所述凹部延伸的平面(27)平行、并且与所述平面(27)隔开,其中皮肤接合面位于所述凹部中。

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