[发明专利]GDF‑8抑制剂

权利要求书

1.具有式(I°)的结构的化合物或其药用盐、前药或N-氧化物，或其溶剂化物或水合物：

其中

n为1、2、3或4；

R¹为氢、卤素、氰基、硝基、C_1-6烷基、卤代C_1-6烷基、C_3-8环烷基、C_3-8环烯基、杂环基、芳基、杂芳基、-R^a或-C_1-6烷基-R^a，其中R^a为-OR^S1、-SR^S1、-NR^S1R^S1、-C(O)R^S1、-C(O)OR^S1、-C(O)NR^S1R^S1、-S(O)₂NR^S1R^S1、-OC(O)R^S1、-N(R^S1)C(O)R^S1、-OC(O)OR^S1、-O(CH₂)_mC(O)NR^S1R^S1、-N(R^S1)C(O)OR^S1、-N(R)C(O)NR^S1R^S1、-N(R^S1)S(O)₂NR^S1R^S1或-N(R^S1)S(O)₂R^S1；

其中m为0、1、2或3；且

其中各R^S1独立地为氢、C₁-C₆烷基、卤代C₁-C₆烷基、-(C₀-C₆烷基)-Ar、-(C₀-C₆烷基)-Het、-(C₀-C₆烷基)-Cak或-(C₀-C₆烷基)-Hca，其中Ar、Het、Cak、Hca、烷基和卤代烷基任选地经C₁-C₆烷基、卤素、卤代C₁-C₆烷基或氰基取代；

p为1、2、3或4；

R²为氢、卤素、氰基、硝基、C_1-6烷基、卤代C_1-6烷基、C_3-8环烷基、C_3-8环烯基、杂环基、芳基、杂芳基、-R^b或-C_1-6烷基-R^b，其中R^b为-OR^S4、-SR^S4、-NR^S4R^S4、-C(O)R^S4、-C(O)OR^S4、-C(O)NR^S4R^S4、-S(O)₂NR^S4R^S4、-OC(O)R^S4、-N(R^S4)C(O)R^S4、-OC(O)OR^S4、-O(CH₂)_qC(O)NR^S4R^S4、-N(R^S4)C(O)OR^S4、-N(R)C(O)NR^S4R^S4、-N(R^S4)S(O)₂NR^S4R^S4或-N(R^S4)S(O)₂R^S4；

其中q为0、1、2或3；且

其中各R^S4独立地为氢、C₁-C₆烷基、卤代C₁-C₆烷基、-(C₀-C₆烷基)-Ar、-(C₀-C₆烷基)-Het、-(C₀-C₆烷基)-Cak或-(C₀-C₆烷基)-Hca，其中Ar、Het、Cak、Hca、烷基和卤代烷基任选地经C₁-C₆烷基、卤素、卤代C₁-C₆烷基或氰基取代；

Z为

式的稠合二环，其中

环A为Ar或6元Het，

环B为5或6元Het，

其中

Z任选地被一个或两个-R^Z基团取代，所述-R^Z基团各自独立地为卤素、氰基、C_1-6烷基、卤代C_1-6烷基、-C₁-C₆烷氧基、-OR^S2、-SR^S2、-NR^S2₂、-C(O)R^S2、-C(O)OR^S2、-C(O)NR^S2₂、-S(O)₂NR^S2₂、-S(O)₂R^S2、-OC(O)R^S2、-N(R^S2)C(O)R^S2、-OC(O)OR^S2、-OC(O)NR^S2₂、-N(R^S2)C(O)OR^S2、-N(R^S2)C(O)NR^S2₂、-N(R^S2)S(O)₂R^S2、-OP(O)(OR^S2)₂或-CH₂-OP(O)(OR^S2)，其中各烷基、卤代烷基和烷氧基任选地被一个或两个-R^Z2基团取代；

其中各R^S2独立地为氢、C₁-C₆烷基、卤代C₁-C₆烷基、C₁-C₆烷基-O-C₁-C₆烷基、-(C₀-C₆烷基)-Ar、-(C₀-C₆烷基)-Het、-(C₀-C₆烷基)-Cak或-(C₀-C₆烷基)-Hca，其中Ar、Het、Cak、Hca、烷基和卤代烷基任选地经C₁-C₆烷基、卤素、卤代C₁-C₆烷基或氰基取代；且

各-R^Z2独立地为卤素、氰基、C_1-6烷基、卤代C_1-6烷基、-C₁-C₆烷氧基、-OR^S3、-SR^S3、-NR^S3₂、-C(O)R^S3、-C(O)OR^S3、-C(O)NR^S3₂、-S(O)₂NR^S3₂、-S(O)₂R^S3、-OC(O)R^S3、-N(R^S3)C(O)R^S3、-OC(O)OR^S3、-OC(O)NR^S3₂、-N(R^S3)C(O)OR^S3、-N(R^S3)C(O)NR^S3₂、-N(R^S3)S(O)₂R^S3、-OP(O)(OR^S3)₂或-CH₂-OP(O)(OR^S3)；且

其中各R^S3独立地为氢、C₁-C₆烷基、卤代C₁-C₆烷基、-(C₀-C₆烷基)-Ar、-(C₀-C₆烷基)-Het、-(C₀-C₆烷基)-Cak或-(C₀-C₆烷基)-Hca，其中Ar、Het、Cak、Hca、烷基和卤代烷基任选地经C₁-C₆烷基、卤素、卤代C₁-C₆烷基或氰基取代。