[发明专利]无碱玻璃基板

说明书

技术领域

本发明涉及一种无碱玻璃基板，特别涉及一种适合于液晶显示器、有机EL显示器等的平板显示器用玻璃基板的无碱玻璃基板。

背景技术

有机EL显示器等有机EL器件为薄型且动画显示优异，并且耗电量也低，因此在移动电话的显示器等的用途中使用。

作为有机EL显示器的基板，广泛使用玻璃基板。该用途的玻璃基板中使用实质上不含碱金属氧化物的玻璃、即无碱玻璃。若使用无碱玻璃，则可防止在利用热处理工序而成膜的半导体物质中碱离子发生扩散的情况。

发明内容

发明所要解决的课题

对于该用途的无碱玻璃基板，例如要求以下的要求特性(1)和(2)。

(1)为了提高薄型的玻璃基板的生产率，成形时难以失透、即耐失透性高。

(2)在p-Si·TFT、特别是高温p-Si等的制造工序中，为了减少玻璃基板的热收缩，耐热性高。

然而，并不容易使所述要求特性(1)和(2)兼顾。即，若要提高无碱玻璃的耐热性，则耐失透性容易降低，反之，若要提高无碱玻璃的耐失透性，则耐热性容易降低。

本发明是鉴于上述情况而完成的，其技术性课题是发明一种耐失透性和耐热性高的无碱玻璃基板。

用于解决课题的手段

本发明人等反复进行各种实验，结果发现通过将玻璃组成控制在规定范围内，并减少玻璃中的水分量，可解决上述技术性课题，从而提出本发明。即，本发明的无碱玻璃基板的特征在于，作为玻璃组成，以摩尔％计含有SiO₂ 60～80％、Al₂O₃ 8～25％、B₂O₃ 0％以上且小于3％、Li₂O+Na₂O+K₂O0％以上且小于1％、MgO 0～10％、CaO 1～15％、SrO 0～12％、BaO0～12％、As₂O₃ 0％以上且小于0.05％、以及Sb₂O₃ 0％以上且小于0.05％，板厚为0.05～0.7mm，应变点为700℃以上，且β-OH值小于0.20/mm。在此，“Li₂O+Na₂O+K₂O”是指Li₂O、Na₂O及K₂O的总量。“应变点”是指基于ASTM C336进行测定的值。“β-OH值”是指使用FT-IR来测定透过率，并通过下述数学公式1算出的值。

[数学公式1]

β-OH值＝(1/X)log(T₁/T₂)

X：板厚(mm)

T₁：参照波长3846cm^-1处的透过率(％)

T₂：羟基吸收波长3600cm^-1附近的最小透过率(％)

对于本发明的无碱玻璃基板而言，将玻璃组成中的B₂O₃的含量控制为小于3摩尔％、Li₂O+Na₂O+K₂O的含量控制为小于1摩尔％、且β-OH值控制为小于0.20/mm。这样一来，应变点显著上升，能够大幅提高玻璃基板的耐热性。结果在p-Si·TFT、特别是高温p-Si等的制造工序中，能够大幅减少玻璃基板的热收缩。

还有，本发明的无碱玻璃基板在玻璃组成中含有SiO₂ 60～80摩尔％、Al₂O₃ 8～25摩尔％、且CaO 1～15摩尔％。这样一来，能够提高耐失透性。结果通过溢流下拉法等，容易成形薄的玻璃基板。