[发明专利]开关器件和存储装置有效

专利信息
申请号: 201680017522.X 申请日: 2016-03-16
公开(公告)号: CN107431069B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 大场和博;清宏彰;野野口诚二;曾根威之;五十岚实 申请(专利权)人: 索尼半导体解决方案公司
主分类号: H01L27/105 分类号: H01L27/105;H01L45/00;H01L49/00
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 张荣海
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 开关 器件 存储 装置
【权利要求书】:

1.一种开关器件,包括:

第一电极;

第二电极,部署成面对第一电极;以及

开关层,被设置在第一电极与第二电极之间,并且包含选自碲(Te)、硒(Se)以及硫(S)的一种或多种硫族元素,所述开关层包括第一区域和第二区域,这两个区域具有所述一种或多种硫族元素的不同组成比或所述一种或多种硫族元素的不同类型,第一区域被设置成靠近第一电极,并且第二区域被设置成比第一区域更靠近第二电极,其中,

当在第一电极与第二电极之间施加第一电压时,通过第一电压的绝对值增加到第一阈值电压或更高而将开关层变为低电阻状态,并且通过第一电压的绝对值减小到低于第一阈值电压的电压而将开关层变为高电阻状态,第一电压使得第一电极的电压高于第二电极的电压,

当在第一电极与第二电极之间施加第二电压时,通过第二电压的绝对值增加到第二阈值电压或更高而将开关层变成低电阻状态,并且通过第二电压的绝对值减小到低于第二阈值电压的电压而将开关层变为高电阻状态,第二电压使得第二电极的电压高于第一电极的电压,以及

开关层包括第一区域和第二区域,这两个区域具有所述一种或多种硫族元素的不同组成比或者所述一种或多种硫族元素的不同类型,以使得第一阈值电压的绝对值不同于第二阈值电压的绝对值。

2.如权利要求1所述的开关器件,其中

开关层还包含选自硼(B)、碳(C)以及硅(Si)的一种或多种附带元素,以及

开关层包括第一区域和第二区域,这两个区域具有所述一种或多种附带元素的不同组成比或所述一种或多种附带元素的不同类型。

3.如权利要求1所述的开关器件,其中开关层包括扩散抑制层,该扩散抑制层抑制硫族元素在第一区域与第二区域之间的扩散,硫族元素包含在第一区域和第二区域中。

4.如权利要求3所述的开关器件,其中扩散抑制层包含钨(W)、钼(Mo)、铬(Cr)、钒(V)、铌(Nb)、钽(Ta)、钛(Ti)、锆(Zr)、铪(Hf)或选自其中的一种或多种元素的氮化物。

5.一种设置有多个存储器单元的存储装置,每个存储器单元包括存储器器件和直接耦接到存储器器件的开关器件,所述开关器件包括:

第一电极;

第二电极,部署成面对第一电极;以及

开关层,被设置在第一电极与第二电极之间,并且包含选自碲(Te)、硒(Se)以及硫(S)的一种或多种硫族元素,所述开关层包括第一区域和第二区域,这两个区域具有所述一种或多种硫族元素的不同组成比或所述一种或多种硫族元素的不同类型,第一区域被设置成靠近第一电极,第二区域被设置成比第一区域更靠近第二电极,其中,

当在第一电极与第二电极之间施加第一电压时,通过第一电压的绝对值增加到第一阈值电压或更高而将开关层变为低电阻状态,并且通过第一电压的绝对值减小到低于第一阈值电压的电压而将开关层变为高电阻状态,第一电压使得第一电极的电压高于第二电极的电压,

当在第一电极与第二电极之间施加第二电压时,通过第二电压的绝对值增加到第二阈值电压或更高而将开关层变成低电阻状态,并且通过第二电压的绝对值减小到低于第二阈值电压的电压而将开关层变为高电阻状态,第二电压使得第二电极的电压高于第一电极的电压,以及

开关层包括第一区域和第二区域,这两个区域具有所述一种或多种硫族元素的不同组成比或者所述一种或多种硫族元素的不同类型,以使得第一阈值电压的绝对值不同于第二阈值电压的绝对值。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于索尼半导体解决方案公司,未经索尼半导体解决方案公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201680017522.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top