[发明专利]光消毒系统和方法

权利要求书

1.一种系统，包括：

光源，所述光源被配置成朝一个或多个表面或材料产生光以灭活所述一个或多个表面或材料上的一个或多个病原体，所述光包括灭活部分，所述灭活部分具有在280到380纳米范围内的波长。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，至少被所述光的灭活部分灭活的所述一个或多个病原体包括以下中的一个或多个：葡萄球菌、梭状芽孢杆菌、链球菌或细菌性肺炎。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成朝所述一个或多个表面或材料产生所述光，同时还并行地使一个或多个人暴露于所述光。

4.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成朝所述一个或多个表面或材料产生所述光以不使用光敏剂而灭活所述一个或多个病原体。

5.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分对所述光的人观察者察觉不到。

6.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过0.00015瓦特光化学紫外光每平方米占地面积。

7.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过0.5瓦特紫外A光每平方米占地面积。

8.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过11瓦特蓝光每立体弧度每平方米占地面积。

9.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过0.001瓦特光化学紫外光每平方米占地面积。

10.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过10瓦特每平方米占地面积的紫外A光每平方米占地面积。

11.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过100瓦特蓝光每立体弧度每平方米占地面积。

12.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过0.003瓦特光化学紫外光每平方米占地面积。

13.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过33瓦特每平方米占地面积的紫外A光每平方米占地面积。

14.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光的灭活部分，使得所述光的灭活部分包括不超过10,000瓦特蓝光每立体弧度每平方米占地。

15.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分的峰值波长大于300纳米。

16.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分包括在320到380nm范围内的波长。

17.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分具有在320到370nm范围内的峰值波长。

18.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分在小于0.5的占空因数以超过100赫兹的频率脉动。

19.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源被配置成产生所述光，使得所述光的灭活部分在小于0.1的占空因数以超过100赫兹的频率脉动。

20.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述光源产生所述光，以包括具有在280到380纳米范围内的波长的所述光的灭活部分和具有更长波长的所述光的第二部分。