[发明专利]阳极防护罩

权利要求书

1.一种溅射系统，包括：

靶材；

腔室；

阳极，定位在所述靶材和所述腔室之间；以及

阳极防护罩，定位在所述靶材和所述阳极之间。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述靶材包括基本上定位在单个平面内的纵向表面。

3.根据权利要求1所述的系统，其中所述靶材包括硅或锆。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极包括定位在基本上平行于所述靶材的所述表面的所述平面的平面内的纵向表面。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极包括边缘部分，所述边缘部分具有大于所述阳极的内部部分的厚度的厚度。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极包括表面纹理。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极包括由线性峰谷形成的表面。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极防护罩包括定位在基本上平行于所述靶材的所述表面的所述平面和所述阳极表面的所述平面的平面内的纵向表面。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述阳极防护罩定位成比所述靶材更靠近所述阳极。

10.根据权利要求1所述的系统，其中在所述阳极的表面和所述防护罩的表面之间形成大约0.5至1.5毫米的间隙。

11.一种阳极布置，包括：

靶材掩模，至少部分突出到溅射路径中，所述靶材掩模具有第一纵向侧和第二纵向侧；

阳极防护罩，定位在所述靶材掩模和靶材之间；以及

形成在所述靶材掩模和所述阳极防护罩之间厚度为大约0.5至1.5毫米的空间。

12.根据权利要求11所述的布置，其中所述靶材掩模包括阳极。

13.根据权利要求11所述的布置，其中所述靶材掩模包括边缘，所述边缘具有大于所述靶材掩模的内部部分的厚度的厚度。

14.根据权利要求13所述的布置，其中所述阳极防护罩直接抵靠所述靶材掩模的所述边缘的所述第一纵向表面来定位。

15.根据权利要求11所述的布置，其中所述第一纵向表面的至少一部分包括相对于所述第二纵向表面的表面积增加所述第一纵向表面的表面积的纹理。

16.一种用于防护溅射系统的阳极的方法，包括以下步骤：

将阳极插置在溅射靶材和溅射腔室之间；

将阳极防护罩插置在所述溅射靶材和所述阳极之间；以及

在所述阳极的表面和所述阳极防护罩的表面之间形成大约0.5至1.5毫米的间隙。

17.根据权利要求16所述的方法，其中将阳极插置在溅射靶材和溅射腔室之间的所述步骤包括将所述阳极的纵向表面定位在基本上平行于所述溅射靶材的纵向表面的平面中。

18.根据权利要求16所述的方法，其中将阳极插置在溅射靶材和溅射腔室之间的所述步骤包括将所述阳极的纹理表面插置在溅射靶材和溅射腔室之间。

19.根据权利要求16所述的方法，其中将阳极防护罩插置在所述溅射靶材和所述阳极之间的所述步骤包括将所述阳极防护罩的纵向表面定位在基本上平行于所述阳极的纵向表面的平面中。

20.根据权利要求16所述的方法，其中将阳极防护罩插置在所述溅射靶材和所述阳极之间的所述步骤包括用所述阳极防护罩覆盖所述阳极暴露于所述溅射靶材的整个纵向表面。