[发明专利]新型硅氧烷聚合物组合物及其用途

说明书

领域

本发明涉及硅氧烷聚合物组合物。本发明尤其涉及具有适合用于光刻制造方法中的性能的硅氧烷聚合物组合物。本发明还涉及该类组合物的合成、聚合和交联。

背景

显示器件和半导体器件由施加在基材上的多个涂层和图案化层或在该器件中提供特定功能的其他涂层构成。涂层通常通过溅射、化学气相沉积、电子束和其他物理气相沉积技术沉积或者涂层使用许多不同液相涂敷方法由液相沉积。这些层通常光刻法和湿或干蚀刻或其他消减或加添方法进行图案化步骤以在基材上产生最终所需涂层、图案和结构。

液相材料通常通过光刻方法直接图案化或者通过其他加添图案化技术图案化。液相沉积涂层通常热固化或通过组合的UV和热处理固化。在运行物理气相沉积方法时，涂层(和基材)在涂敷方法过程中经受升高的温度。此外，当制造多层堆叠体时，基材和涂层在该制造方法过程中经历多重热循环且暴露于各种化学蚀刻溶液。涂层必须对侵蚀性蚀刻溶液具有足够的化学耐性，提供良好的热和环境稳定性、非泛黄特性和高光学质量。此外，涂层必须就附着而言具有良好的相容性且必须具有足够硬度。制造商在器件水平上不断向更高整合推进并设计越来越高级的物理尺寸和形状，这对涂层设定了进一步挑战和工艺限制。要满足的一个显著要求是要在低固化温度下提供相同性能。

尽管存在适合显示器和半导体技术的涂层，但仍需要进一步改善涂层及其制造方法。

概述

下面提供简化概要，为的是提供对各种发明实施方案的某些方面的基本理解。该该要不是本发明的广泛概述。既不意欲确定本发明的重要或关键要素也不勾画本发明范围。下列概要仅仅以简化形式提供本发明的某些概念作为本发明例举实施方案的更详细说明的前奏。

按照本发明，提供了一种生产硅氧烷聚合物的新方法，该方法包括如下步骤：

(a)混合第一溶剂、至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷而形成混合物，

条件是硅烷单体中的至少一种或该二硅烷包括能够实现与相邻硅氧烷聚合物链的交联的活性基团；

(b)对该混合物进行酸处理，从而至少部分水解硅烷单体，并且水解的硅烷单体、硅烷单体和该二硅烷至少部分聚合和至少部分交联；

(c)任选将第一溶剂改变为第二溶剂；以及

(d)使该混合物经历有助于实现硅氧烷聚合物的进一步交联的条件。

根据另一方面，本发明涉及一种可以通过如下步骤得到的硅氧烷聚合物组合物：

(a)混合第一溶剂、至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷而形成混合物，

条件是硅烷单体中的至少一种或该二硅烷包括能够实现与相邻硅氧烷聚合物链的交联的活性基团；

(b)对该混合物进行酸处理，从而至少部分水解硅烷单体，并且水解的硅烷单体、硅烷单体和该二硅烷至少部分聚合和至少部分交联；

(c)任选将第一溶剂改变为第二溶剂；以及

(d)使该混合物经历硅氧烷聚合物的进一步交联。

根据另一方面，本发明涉及本发明硅氧烷聚合物组合物在制造显示器件或半导体器件的方法中的用途。

根据另一方面，本发明涉及一种覆盖基材的方法，该方法包括：

-提供可以由本发明方法得到的硅氧烷聚合物组合物并将该硅氧烷聚合物组合物沉积于基材上。

根据再一方面，本发明涉及一种组合物，其包括至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷以及溶剂，其中硅烷单体中的至少一种或者该二硅烷包括能够在热或辐射引发时实现交联的活性基团。

本发明的其他方面公开在从属权利要求中。

本发明有关构造和操作方法二者的各种例举和非限制性实施方案与额外的目的及其优点一起最好在于附图结合阅读时从特定例举实施方案的下列说明理解。

动词“包含”和“包括”在本文中作为既不排除也不要求存在也未列举的特征的开放式限制使用。除非另有明确描述，在从属权利要求中列举的特征可以相互自由组合。

附图简述

图1说明示例性显示器件结构体的剖面图，其中使用多个涂层来提供特殊功能，以及

图2-4说明示例性传感器结构体的剖面图。

实施方案

根据一个实施方案，本公开的发明涉及一种生产硅烷聚合物的方法，该方法包括：

(a)混合第一溶剂、至少四种不同的硅烷单体和至少一种二硅烷而形成混合物，

条件是硅烷单体中的至少一种或该二硅烷包括能够例如在热或辐射引发时实现与相邻硅氧烷聚合物链的交联的活性基团；