[发明专利]氮化镓系烧结体和其制造方法有效
| 申请号： | 201680015322.0 | 申请日： | 2016-03-24 |
| 公开（公告）号： | CN107429383B | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 召田雅实;仓持豪人 | 申请（专利权）人： | 东曹株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B35/58;C30B29/38 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 氮化 烧结 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种氮化镓系烧结体，其特征在于，含氧量为1atm％以下、电阻率为1×102Ω·cm以下，密度为3.0g/cm3以上且5.4g/cm3以下，在大气中进行250℃的加热处理1小时也无法以目视确认金属镓自靶材构件的析出。
2.根据权利要求1所述的氮化镓系烧结体，其特征在于，烧结体的平均粒径为0.5μm以上且3μm以下。
3.根据权利要求1或2所述的氮化镓系烧结体，其特征在于，烧结体的重量为10g以上。
4.根据权利要求1所述的氮化镓系烧结体的制造方法，其特征在于，其为利用热压法的氮化镓系烧结体的制造方法，以含氧量2atm％以下的氮化镓粉末为原料，热压时以腔室中的达到真空度为70Pa以下、1060℃以上且低于1300℃进行加热。
5.一种氮化镓溅射靶材，其特征在于，使用权利要求1～3中任一项所述的氮化镓系烧结体。
6.根据权利要求5所述的溅射靶材，其特征在于，在靶材构件与接合层之间不存在包含钨的层。
7.根据权利要求5或6所述的溅射靶材，其特征在于，接合层包含铟、锡、锌中的至少1种成分。
8.一种氮化镓系薄膜的制造方法，其特征在于，使用权利要求5～7中任一项所述的溅射靶材。
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