[发明专利]虚拟和增强现实系统和组件的改进制造

权利要求书

1.一种用于制造衍射光学元件的方法，所述方法包括：

将一组或多组材料沉积在衬底上，其中所述一组或多组材料包括材料的第一部分和材料的第二部分，所述材料的第一部分被沉积到所述衬底上的第一区域上，所述材料的第一部分具有第一光学指数，所述材料的第二部分被沉积到所述衬底上的第二区域上，所述材料的第二部分具有第二光学指数；

识别其上形成有印刻图案的模板，其中所述模板包括第一组深度结构和第二组深度结构，所述第一组深度结构对应于被沉积到所述第一区域上的所述材料的第一部分的第一深度，所述第二组深度结构对应于被沉积到所述第二区域上的所述材料的第二部分的第二深度；以及

使用所述模板将所述印刻图案印刻在所述衬底上的所述材料的第一部分和所述材料的第二部分中；其中

所述印刻图案包括第一图案和第二图案；

在印刻之前，所述材料的第一部分被配置为具有根据至少第一光学功能的所述第一深度，所述材料的第二部分被配置为具有根据至少第二光学功能的所述第二深度；并且

所述第一深度不同于所述第二深度；并且

其中所述印刻图案包括用于所述衍射光学元件的衍射图案。

2.根据权利要求1所述的方法，还包括同时在所述衬底上形成所述第一图案和所述第二图案，其中所述模板使用所述第一组深度结构将所述第一图案印刻在所述材料的所述第一部分上，并且所述模板使用所述第二组深度结构将所述第二图案印刻在所述材料的所述第二部分上。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第一图案对应于第一衍射光栅图案并且所述第二图案对应于第二衍射光栅图案。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述材料的所述第一和第二部分对应于所述材料在所述衬底上的非均匀分布。

5.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述衬底形成均匀厚度下垫层，使得所述第一和第二图案形成所述均匀厚度下垫层的可变深度结构。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述衬底上的所述一组或多组材料包括材料的第一部分和材料的第二部分，所述材料的所述第一部分具有不同于所述材料的所述第二部分的光学性质。

7.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述材料的所述第一部分与所述材料的所述第二部分之间的不同光学性质对应于不同的折射率、不透明度或吸收性。

8.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述材料的所述第一部分在印刻之前被沉积在所述材料的所述第二部分上。

9.根据权利要求1或2所述的方法，其中：

所述衬底上的所述一组或多组材料包括材料的第一部分和材料的第二部分，所述材料的第一部分位于所述衬底的第一面上并且所述材料的第二部分位于所述衬底的第二面上；

将第一图案印刻在所述衬底的所述第一面上的所述材料的第一部分中；以及

将第二图案印刻在所述衬底的所述第二面上的所述材料的第二部分中。

10.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述第一图案不同于所述第二图案。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述材料的第一部分是不同于所述材料的第二部分的材料。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中所述衬底上的所述一组或多组材料包括材料的第一部分和材料的第二部分，其中在所述材料的所述第二部分的沉积之前沉积并印刻所述材料的所述第一部分。

13.根据权利要求1或2所述的方法，其中在所述材料的所述第二部分上执行印刻。

14.根据权利要求1或2所述的方法，其中具有第一印刻图案的第一衬底覆盖在具有第二印刻图案的第二衬底上。