[发明专利]医学超声成像中的基于谐波与基波关系的发射功率

权利要求书

1.一种用于在医学诊断超声成像中设置发射功率以确保患者安全的系统，所述系统包括：

超声扫描仪，其被配置为测量患者中的位置处的组织的基波响应，以及测量所述位置处的谐波响应，所述位置被选择为处于患者中的感兴趣的区域或视场的最深部分；和

处理器，其被配置为计算来自感兴趣的区域或视场的最深部分处的位置的基波和谐波响应的比率，以及根据基波和谐波响应的比率来设置超声扫描仪的发射器的发射功率，使得针对视场或感兴趣的区域提供用于对组织进行成像的谐波信息；

其中超声扫描仪还被配置为使用发射功率、利用患者中的感兴趣的区域或视场中的谐波信息对组织进行成像。

2.根据权利要求1所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过在第一频带处发射并在所述第一频带处接收来测量基波响应，以及通过在所述第一频带处发射并在不同于所述第一频带的第二频带处接收来测量谐波响应。

3.根据权利要求1所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过测量对基波频率的二次谐波来测量谐波响应。

4.根据权利要求1所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过下述操作来测量基波和谐波响应：

发射具有以180度不同的相位的第一和第二脉冲；

针对谐波响应，将分别对第一和第二脉冲的第一和第二响应相加；和

针对基波响应，将第一和第二响应相减。

5.根据权利要求1所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过从所检测的数据进行测量来测量基波和谐波响应。

6.根据权利要求1所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过测量具有包括所述位置的多个位置的区中的平均响应来测量基波和谐波响应，所述区处于感兴趣的区域或视场的最深部分。

7.根据权利要求1所述的系统，其中：

超声扫描仪被配置用于成像，该配置包括设置视场、线密度和频率且在测量基波和谐波响应之前执行；

其中超声扫描仪被配置为通过利用视场、线密度和频率的设置进行测量来测量基波和谐波响应。

8.根据权利要求7所述的系统，其中：

超声扫描仪被配置为响应于该配置的变更而重复基波和谐波响应的测量、计算、和发射功率的设置。

9.根据权利要求1所述的系统，其中处理器被配置为通过将谐波响应除以基波响应来计算比率。

10.根据权利要求1所述的系统，其中处理器被配置为通过下述操作来设置发射功率：针对谐波响应与基波响应的较高比率，利用映射到较小功率的发射功率进行设置。

11.根据权利要求1所述的系统，其中处理器被配置为通过下述操作来设置发射功率：设置振幅、元件的数量、或者振幅和元件的数量。

12.根据权利要求1所述的系统，其中处理器被配置为通过下述操作来设置发射功率：在二元映射中将发射功率选择为具有在某一值以下的比率的第一电平以及将发射功率选择为具有在所述值以上的比率的第二电平。

13.根据权利要求1所述的系统，其中成像包括谐波成像。

14.根据权利要求13所述的系统，其中超声扫描仪被配置为通过在成像中使用的谐波处进行测量来测量谐波响应。