[发明专利]R-T-B系烧结磁体的制造方法有效
| 申请号: | 201680010497.2 | 申请日: | 2016-02-16 |
| 公开(公告)号: | CN107251175B | 公开(公告)日: | 2019-04-09 |
| 发明(设计)人: | 重本恭孝;西内武司;国吉太;野泽宣介 | 申请(专利权)人: | 日立金属株式会社 |
| 主分类号: | H01F41/02 | 分类号: | H01F41/02;B22F3/00;B22F3/24;C22C28/00;C22C38/00;H01F1/057;H01F1/08 |
| 代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳;程采 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 烧结 磁体 制造 方法 | ||
1.一种R-T-B系烧结磁体的制造方法,其中,R为稀土元素中的至少一种且必须包含Nd,T为过渡金属元素中的至少一种且必须包含Fe,B的一部分能够用C置换,所述制造方法的特征在于,包括:
准备R1-T1-X系合金烧结体的工序,其中,R1为稀土元素中的至少一种且必须包含Nd,R1-T1-X系合金烧结体所含的R1的比率为27mass%以上35mass%以下,T1为Fe或Fe和M,M为选自Ga、Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Zr、Nb、Mo和Ag中的一种以上,X为B且B的一部分能够用C置换,[T1]/[X]的摩尔比为13.0以上;
准备R2-Ga-Cu系合金的工序,其中,R2为稀土元素中的至少一种且必须包含Pr和/或Nd,R2-Ga-Cu系合金所含的R2的比率为65mol%以上95mol%以下,[Cu]/([Ga]+[Cu])以摩尔比计为0.1以上0.9以下;和
使所述R2-Ga-Cu系合金的至少一部分与所述R1-T1-X系合金烧结体的表面的至少一部分接触之后,在真空或不活泼气体气氛中、在450℃以上600℃以下的温度进行热处理的工序。
2.如权利要求1所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述R1-T1-X的T1为Fe和M,M为选自Al、Si、Ti、V、Cr、Mn、Co、Ni、Cu、Zn、Ge、Zr、Nb、Mo和Ag中的一种以上。
3.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R1-T1-X系合金烧结体中的[T1]/[X]的摩尔比为13.6以上。
4.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R1-T1-X系合金烧结体中的[T1]/[X]的摩尔比为14以上。
5.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R1-T1-X系合金烧结体中的重稀土元素为1mass%以下。
6.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述准备R1-T1-X系合金烧结体的工序包括:将原料合金粉碎成1μm以上10μm以下之后,在磁场中进行成型、烧结的步骤。
7.如权利要求6所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
所述准备R1-T1-X系合金烧结体的工序包括:在所述烧结之后,在超过600℃且低于烧结温度的温度进行高温热处理的步骤。
8.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R2-Ga-Cu系合金不含重稀土元素。
9.如权利要求8所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R2-Ga-Cu系合金中的R2的50mol%以上为Pr。
10.如权利要求8所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R2-Ga-Cu系合金中的R2仅由Pr构成,其中包含不可避免的杂质。
11.如权利要求1或2所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R2-Ga-Cu系合金中的R2的一部分为重稀土元素,所述重稀土元素的含量为所述R2-Ga-Cu系合金整体的10mol%以下。
12.如权利要求11所述的R-T-B系烧结磁体的制造方法,其特征在于:
R2-Ga-Cu系合金中的R2的一部分为重稀土元素,所述重稀土元素的含量为所述R2-Ga-Cu系合金整体的5mol%以下。
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