[发明专利]在不连续基底上形成纹理的方法有效

专利信息
申请号: 201680009497.0 申请日: 2016-02-11
公开(公告)号: CN107466380B 公开(公告)日: 2021-10-01
发明(设计)人: J·M·特尔默伦;B·J·蒂图莱尔;A·J·范埃芬 申请(专利权)人: 莫福托尼克斯控股有限公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 11247 代理人: 彭立兵;林柏楠
地址: 荷兰费*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 连续 基底 形成 纹理 方法
【权利要求书】:

1.用于辊-至-板纹理化或图案化不连续基底的压模,其包含刻印纹理作为其外表面层,该刻印纹理通过开孔和凸起形成,由此得到刻印纹理中的空的容积,其特征是刻印纹理在其至少一个边缘处包含多个开孔和凸起以形成更大的空的容积的区间,并且压模是杨氏模量为0.1千兆帕斯卡至10千兆帕斯卡的柔性压模,其特征在于在所述具有更大的容积的区间内的蓄存区区域内的凸起成型为块、棒、圆柱、三棱柱或锥。

2.权利要求1的压模,其特征在于通过增加刻印纹理中开孔的深度和/或凸起的高度获得所述更大的空的容积。

3.权利要求1的压模,其特征在于为填充物材料的其他材料用做位于柔性压模基础和刻印纹理之间的刻印纹理彩料的基础,并且更大的空的容积由填充物材料建立。

4.权利要求1-3中任一项的压模,其中非刻印纹理具有残留层厚度,并且更大的空的容积通过残留层厚度的增加而建立。

5.权利要求1-3中任一项的压模,其特征在于所述具有更大的容积的蓄存区区域区间中的开孔和/或凸起是用衍射、散射或反射纹理纹理化的。

6.权利要求4的压模,其特征在于所述具有更大的容积的蓄存区区域区间中的开孔和/或凸起是用衍射、散射或反射纹理纹理化的。

7.权利要求1-3中任一项的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内的凸起和开孔的密度分布和表面纹理的对齐方式使得其可用于装饰或信息目的。

8.权利要求4的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内的凸起和开孔的密度分布和表面纹理的对齐方式使得其可用于装饰或信息目的。

9.权利要求5的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内的凸起和开孔的密度分布和表面纹理的对齐方式使得其可用于装饰或信息目的。

10.权利要求6的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内的凸起和开孔的密度分布和表面纹理的对齐方式使得其可用于装饰或信息目的。

11.权利要求1-3中任一项中任一项的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内蓄存区区域的凸起具有与功能区域相同的纹理。

12.权利要求4的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内蓄存区区域的凸起具有与功能区域相同的纹理。

13.权利要求5的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内蓄存区区域的凸起具有与功能区域相同的纹理。

14.权利要求7的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内蓄存区区域的凸起具有与功能区域相同的纹理。

15.权利要求10的压模,其特征在于所述具有更大的容积的区间内蓄存区区域的凸起具有与功能区域相同的纹理。

16.权利要求1-3中任一项的压模,其特征在于与功能区域的容积相比刻印纹理包括在边缘具有1.5至20倍的更大的空的容积的区间。

17.权利要求4的压模,其特征在于与功能区域的容积相比刻印纹理包括在边缘具有1.5至20倍的更大的空的容积的区间。

18.权利要求5的压模,其特征在于与功能区域的容积相比刻印纹理包括在边缘具有1.5至20倍的更大的空的容积的区间。

19.权利要求7的压模,其特征在于与功能区域的容积相比刻印纹理包括在边缘具有1.5至20倍的更大的空的容积的区间。

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