[发明专利]信息记录介质以及信息记录介质的制造方法

权利要求书

1.一种信息记录介质，其为包含基板和多个信息层、通过激光的照射来记录或读取信息的可刻录型信息记录介质，

其中，至少一个信息层的记录膜为至少包含钨(W)和氧(O)的W-O系记录膜，

与所述W-O系记录膜相接地设置有包含30mol％以上锡氧化物的电介质膜A。

2.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，所述锡氧化物为SnO₂。

3.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，所述电介质膜A还包含元素M0的氧化物，其中，M0为选自Si、Ge、Al、Ga、In、Zn、Sb、Bi、Cr、V、Nb、Ta、Ti、Zr、Hf和Y中的至少一种元素。

4.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，所述W-O系记录膜还包含元素M1，其中，M1为选自Ge、Al、Zn、Bi、Te、Cu、Ag、Au、Ni、Pd、Pt、Co、Fe、Mn、Ta、Cr和Mo中的至少一种元素。

5.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，在所述至少一个信息层中，从所述信息记录介质的靠近照射所述激光的面的一侧，依次设置有所述电介质膜A、所述W-O系记录膜、和包含小于30mol％比例的SnO₂的In₂O₃-SnO₂电介质膜。

6.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，在具有N个信息层、将所述信息记录介质的最靠近照射所述激光的面的信息层设为第N信息层、将最靠近所述基板的信息层设为第1信息层时，至少第N信息层具有所述W-O系记录膜和所述电介质膜A，其中，N为正整数。

7.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，所述信息记录介质隔着所述基板在两面上具有所述信息层。

8.根据权利要求1所述的信息记录介质，其中，在所述多个信息层具有引导槽、将靠近照射所述激光的面的一侧的槽设为沟、将远离照射所述激光的面的一侧的槽间设为脊时，在所述多个信息层的各记录膜中，在对应于所述沟和所述脊二者的位置记录信息。

9.一种信息记录介质的制造方法，包含两个以上形成信息层的工序，

至少一个所述形成信息层的工序包含：

工序(i)，形成包含钨(W)和氧(O)的W-O系记录膜；和工序(ii)，形成包含3Omol％以上锡氧化物的电介质膜A，

所述工序(i)包括使用包含W和O的靶实施溅射，

所述工序(ii)包括使用包含Sn和O的靶实施溅射。

10.根据权利要求9所述的信息记录介质的制造方法，其中，在所述工序(i)中，使用添加氧的DC反应性溅射法。

11.根据权利要求9所述的信息记录介质的制造方法，其中，在所述工序(ii)中，使用DC溅射法。