[发明专利]基板处理装置、元件制造系统及元件制造方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，其具备：

基板搬送机构，一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送；

描绘装置，其为了将既定图案描绘于前述基板上，通过调变器将相应于前述图案调变强度后的描绘光束的点光投射于前述基板，并且沿着以扫描器与远心f-θ透镜将前述描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围一维地扫描于前述宽度方向而得到的前述点光的描绘线描绘前述图案的描绘模块于前述宽度方向配置多个，以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式，将排列于前述宽度方向的多个前述描绘线中的第奇数个与第偶数个于前述搬送方向相隔既定间隔配置，并且自前述宽度方向观察时，将前述多个描绘模块的第奇数个与第偶数个相对于前述间隔的在前述搬送方向的中心对称配置；

基板速度检测装置，检测出前述基板的搬送速度的变化；以及

控制装置，以前述多个描绘模块中以在前述基板宽度方向彼此相邻的第奇数个与第偶数个的一方前述描绘模块所形成的前述描绘线的端部所描绘的图案，与以第奇数个与第偶数个的另一方前述描绘模块所形成的前述描绘线的端部所描绘的图案在前述搬送方向或前述宽度方向相接合的方式，依据以前述基板速度检测装置检测出的前述搬送速度的变化控制前述描绘模块的各个的描绘时点。

2.一种基板处理装置，其具备：

基板搬送机构，一边支承既定宽度的基板、一边将其以既定速度往与前述基板宽度方向交叉的搬送方向搬送；以及

描绘装置，其为了将既定图案描绘于前述基板上，通过调变器将相应于前述图案调变强度后的描绘光束的点光投射于前述基板，并且沿着以扫描器与远心f-θ透镜将前述描绘光束于较前述基板的宽度窄的范围一维地扫描于前述宽度方向而得到的前述点光的描绘线描绘前述图案的描绘模块于前述宽度方向配置多个，以通过前述多个描绘模块的各个而描绘于前述基板上的图案彼此在前述基板宽度方向相接合的方式，将排列于前述宽度方向的多个前述描绘线中的第奇数个与第偶数个于前述搬送方向相隔既定间隔配置，并且自前述宽度方向观察时，将前述多个描绘模块的第奇数个与第偶数个相对于前述间隔的在前述搬送方向的中心对称配置；

使描绘待在前述基板宽度方向相接合一方图案的第奇数个前述描绘模块沿着前述描绘线扫描前述描绘光束的点光的扫描方向、与描绘待在前述基板宽度方向相接合的另一方图案的第偶数个前述描绘模块沿着前述描绘线扫描前述描绘光束的点光的扫描方向为逆向。

3.如权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，前述基板搬送机构具有旋转圆筒，该旋转圆筒以从延伸于前述基板宽度方向的中心线起一定半径的圆筒状外周面支承前述基板，通过绕前述中心线旋转，使前述基板往前述搬送方向搬送；

使通过前述多个描绘模块的各个而形成于前述基板上的前述描绘线的方向与前述旋转圆筒的中心线的方向大致一致。

4.一种于具有可挠性的长条片状基板上形成电子元件的元件制造系统，具备：

第一处理装置，进行于搬送于长条方向的前述基板的表面形成光感应层的前工艺；

如权利要求1或2所述的基板处理装置，于使用前述第一处理装置处理而搬送于长条方向的前述基板的前述光感应层，描绘与前述电子元件对应的图案；以及

第二处理装置，对使用前述基板处理装置处理并搬送于长条方向的前述基板进行后工艺的处理，于前述基板的表面形成前述电子元件的特定图案层。

5.一种用以于基板上形成电子元件的元件制造方法，包含：

使用权利要求1或2所述的基板处理装置，对经由前工艺的处理而形成于前述基板上的光感应层，通过将前述描绘装置的前述多个描绘模块的各个的前述描绘光束的点光的一维扫描与以前述基板搬送机构对前述基板的搬送，描绘与前述电子元件对应的相接合的图案的动作；以及

通过对使用前述基板处理装置处理后的前述基板进行后工艺的处理，于前述基板上形成与前述相接合的图案对应的前述电子元件的层构造的动作。