[发明专利]改进的等离子弧切割系统、消耗品和操作方法

权利要求书

1.一种用于等离子割炬的液体注射防护罩，所述防护罩包括：

主体，所述主体具有外表面和内表面; 以及

液体注射调节部件，所述液体注射调节部件周向地设置在所述主体的内表面内并且与所述主体的内表面直接接触，所述液体注射调节部件和所述主体的内表面限定腔室，

所述液体注射调节部件限定第一组端口并且限定第二组端口，所述第一组端口被包括在所述液体注射调节部件内并且所述第一组端口的尺寸被设计成调节进入所述腔室的液体，所述第二组端口被包括在所述液体注射调节部件内并且所述第二组端口被定向成分配离开所述腔室的流体，并且

其中，所述第一组端口的总截面流动面积小于所述第二组端口的总截面流动面积。

2.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述第二组端口被定向成向离开所述腔室的所述流体施加旋流。

3.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述液体注射调节部件包括绝缘体材料。

4.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述第一组端口中的每个端口小于所述第二组端口中的每个端口。

5.如权利要求1所述的防护罩，其中,所述第一组端口与所述主体的内表面中的腔室对准。

6.如权利要求1所述的防护罩，其中,所述第一组端口被配置成允许进入所述腔室的液体从2加仑每小时到8加仑每小时的流体流速范围，同时维持离开所述腔室的液体的相对一致的流体流动压力。

7.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述第一组端口被配置成使流体压力减小25psi。

8.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述液体注射调节部件被模制。

9.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述液体注射调节部件是L形的。

10.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述第一组端口被定向成与所述第二组端口成直角。

11.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述腔室被配置成使进入所述腔室的液体进行雾化， 即，形成细雾。

12.如权利要求1所述的防护罩，其中，离开所述腔室的流体是气体、水或水雾。

13.如权利要求1所述的防护罩，其中，所述液体注射调节部件包括两个分开的子部件，第一子部件具有所述第一组端口并且第二子部件具有所述第二组端口。

14.一种调节等离子弧割炬防护罩中液体注射过程的方法，所述方法包括：

提供防护罩，所述防护罩具有出口孔口、内表面、以及外表面，外表面被配置成暴露于熔融飞溅物；

将液体供应到所述防护罩的内表面;

引导所述液体穿过一组计量孔进入腔室，所述一组计量孔被包括在与所述防护罩的内表面接触的液体注射调节部件内，其中，所述计量孔引发所述液体的压降;以及

引导所述液体穿过一组旋流孔到所述腔室外，所述一组旋流孔被包括在所述液体注射调节部件内朝向出口孔口，

其中，所述一组计量孔的总截面面积小于所述一组旋流孔的总截面面积。

15.如权利要求14所述的方法，其中，所述一组计量孔中的每个孔小于所述一组旋流孔中的每个孔。

16.如权利要求14所述的方法，其中，所述计量孔被配置成允许进入所述腔室的液体从2加仑每小时到8加仑每小时的流体流速范围，同时维持离开所述腔室的液体的相对一致的流体流动压力。

17.如权利要求14所述的方法，其中，所述计量孔被配置成使流体流动压力减小25psi。