[发明专利]溅射装置及其状态的判断方法

权利要求书

1.一种溅射装置的状态判断方法，其通过溅射靶并在与该靶相对配置的基板上形成薄膜的溅射装置，在对基板形成薄膜之前判断真空室内的气氛是否是适合成膜的状态，所述溅射装置的状态判断方法，其特征在于：

使用通过隔离装置而在真空室内设置靶和基板所面对的与真空室内隔离开的隔离空间，随着真空室内被抽真空使得隔离空间也被抽真空的装置作为溅射装置，

包含将真空室内抽真空到预设的压力，在该状态下导入气体，获取此时隔离空间内的压力，以在以规定的薄膜厚度、薄膜质量面内分布形成了薄膜时预先求出的所述隔离空间内的压力为基准压力，比较该基准压力和所述获取的隔离空间内的压力并判断溅射装置的状态的第一判断工序。

2.根据权利要求1所述的溅射装置的状态判断方法，其特征在于：

还包含测量真空室内的所述隔离空间外侧的压力，根据该测量出的压力和所述获取的隔离空间内压力的压力差来判断溅射装置的状态的第二判断工序。

3.根据权利要求1或2所述的溅射装置的状态判断方法，其特征在于：

还包含测量在导入所述气体时的每单位时间的所述隔离空间内的压力的变化量，根据该测量出的变化量来判断溅射装置的状态的第三判断工序。

4.根据权利要求1或2所述的溅射装置的状态判断方法，其特征在于：

还包含测量在导入所述气体时的每单位时间的真空室内的所述隔离空间外侧的压力的变化量，根据该测量出的变化量来判断溅射装置的状态的第四判断工序。

5.根据权利要求3所述的溅射装置的状态判断方法，其特征在于：

还包含测量在导入所述气体时的每单位时间的真空室内的所述隔离空间外侧的压力的变化量，根据该测量出的变化量来判断溅射装置的状态的第四判断工序。

6.一种溅射装置，其具有：安装有装卸自由的靶的真空室；在真空室内与靶相对配置并保持基板的台架；限定靶和基板所面对的与真空室内隔离开的隔离空间的隔离装置；以及通过将真空室内抽真空而将隔离空间内抽真空的排气装置，其特征在于：

隔离装置具有配置在台架周围的接地的环形隔离块；以及围绕隔离块与靶的周围而环绕靶和台架之间的空间的隔离板；

隔离块上设置有顶端面向隔离空间而贯通厚度方向的至少一个贯通孔，设置有通过该贯通孔测量隔离空间内的压力的真空计。

7.根据权利要求6所述的溅射装置，其特征在于：

所述隔离块具有多个所述贯通孔，在这些贯通孔的任意一个上形成弯折部分，通过该弯折部分设置所述真空计。