[发明专利]通过离子照射进行的包覆件的除膜方法及除膜装置

权利要求书

1.一种除膜方法，其是将在金属制构件的表面附着由无机物构成的覆膜而成的包覆件设置在两个以上的离子流重叠的离子流集中部、使所述包覆件向大地接地、向所述包覆件照射离子流、从所述金属制构件剥离所述覆膜的除膜方法，其特征在于，

该除膜方法包括第1工序和第2工序，

在所述第1工序中，使含67体积％以上的氧的第1气体等离子体化，生成气体离子，将得到的所述第1气体的离子流向所述包覆件照射来进行除膜，在第2工序中，使含80体积％以上的氩的第2气体等离子体化，生成气体离子，将得到的所述第2气体的离子流向所述包覆件照射来进行除膜，

在所述第1工序之后执行所述第2工序。

2.根据权利要求1所述的除膜方法，其特征在于，

该除膜方法仅由所述第1工序和所述第2工序构成，通过执行作为最终工序的所述第2工序从而能够完成所述包覆件的除膜。

3.根据权利要求1或2所述的除膜方法，其特征在于，

所述第1气体包含从由氩、CF₄、SF₆、CCl₄以及CCl₂F₂构成的组中选出的至少一者。

4.根据权利要求1或2所述的除膜方法，其特征在于，

所述第1气体包含CF₄，CF₄体积％含有率占CF₄体积％含有率和氧体积％含有率的合计的比例为5％以下。