[实用新型]一种气体喷头以及等离子体处理设备

权利要求书

1.一种气体喷头，其特征在于，所述气体喷头具有一中心，所述气体喷头包括至少两个相对所述中心对称设置且互不连通的喷淋区；

其中，每个所述喷淋区内设有多个喷嘴，且每个所述喷淋区还包括：

中心子喷淋区，靠近所述中心设置；以及

边缘子喷淋区，远离所述中心设置。

2.如权利要求1所述的气体喷头，其特征在于，所述气体喷头具有一经过所述中心的第一中心线，所述气体喷头包括分别设置于所述第一中心线两侧的两个喷淋区。

3.如权利要求2所述的气体喷头，其特征在于，所述气体喷头还具有一经过所述中心的第二中心线，所述气体喷头包括分别设置于所述第一中心线和所述第二中心线之间的四个喷淋区。

4.如权利要求3所述的气体喷头，其特征在于，所述第一中心线与所述第二中心线相互垂直。

5.如权利要求4所述的气体喷头，其特征在于，所述气体喷头还具有多条与所述第一中心线平行且两两相对所述第一中心线对称的第一分割线以及多条与所述第二中心线平行且两两相对所述第二中心线对称的第二分割线，所述气体喷头包括分别设置于所述第一中心线、第二中心线、多条第一分割线以及多条第二分割线之间的多个呈矩阵排列的喷淋区。

6.如权利要求2所述的气体喷头，其特征在于，所述气体喷头还具有第三中心线和第四中心线，所述气体喷头包括分别设置于所述第一中心线、所述第三中心线以及所述第四中心线之间的六个喷淋区。

7.如权利要求6所述的气体喷头，其特征在于，所述第一中心线与所述第三中心线之间的夹角以及所述第一中心线与所述第四中心线之间的夹角均为60度。

8.如权利要求1至7中任一项所述的气体喷头，其特征在于，设置于每个所述喷淋区内的喷嘴的数量相等。

9.如权利要求1至7中任一项所述的气体喷头，其特征在于，每个所述喷嘴的尺寸相同。

10.一种等离子体处理设备，其特征在于，所述等离子体处理设备包括如权利要求1至9中任一项所述的气体喷头，还包括：

第一气体控制单元，所述第一气体控制单元与所述气体喷头相连接，控制通入所述气体喷头的各个喷淋区的反应气体的流量；

多个用于通入反应气体的气体管路以及控制每个所述气体管路流量的第二气体控制单元；其中，所述气体管路的数量大于10。