[实用新型]倍捻机磁滞阻尼张力器有效

专利信息
申请号: 201621482970.0 申请日: 2016-12-30
公开(公告)号: CN206328528U 公开(公告)日: 2017-07-14
发明(设计)人: 宋虎;汪斌;郑智;黄清;刘娅娥;李永明 申请(专利权)人: 宜昌经纬纺机有限公司
主分类号: D01H13/10 分类号: D01H13/10;F16F6/00
代理公司: 宜昌市慧宜专利商标代理事务所(特殊普通合伙)42226 代理人: 彭娅
地址: 443001*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 倍捻机磁滞 阻尼 张力
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及纺织机械中的捻线机械部件领域,特别是一种倍捻机磁滞阻尼张力器。

背景技术

在纺织行业中,工业丝倍捻机是一种非常重要的生产设备,在捻线过程中,纱线从锭罐内的筒管退绕时,需要纱线具有一定的张力,尽可能使纱线拉直,同时防止纱线的摆动和缠绕,可见张力调节器是工业丝倍捻机上的重要部件。在工业丝倍捻机进行初捻时,用张力调节器就可以调节内纱退绕的张力,但在多股纱线进行复捻时,内纱退绕过程中纱线容易缠死或者退绕张力不均匀,严重影响纱线的捻度和等长参数,甚至导致纺纱时断纱,则需要用锭翼和张力调节器共同来调节内纱的退绕张力。传统的锭翼是靠摩擦阻尼来实现对纱线的调节功能,由于是靠压力产生阻滞,工作时间长了后,必然产生磨损,阻滞转矩的精度就会发生变化,存在张力值不稳定的情况,从而影响纱线加捻质量,而且当对纱线进行不同张力调节时,需要改变配重质量,操作比较麻烦。

中国专利文献CN2861204Y公开了一种磁滞阻尼器,采用了永磁体和阻尼磁片作为产生旋转阻尼力矩,存在的问题是,其轴向间距通过螺纹调节,由于螺纹配合的间隙较大,调节精度较低,在较高的运转速度下,张力控制不均匀。且螺纹配合的轴向定位操作较为麻烦。在该文献记载的应用方式中,纱线绕过旋转体7的外表面,通过摩擦力实现磁滞阻尼,该结构也不是用于倍捻机的结构。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种倍捻机磁滞阻尼张力器,能够提高阻尼调节的精度,张力控制均匀,优选的方案中,轴向定位操作简便,零件便于加工。且能够用于倍捻机中,用以调节锭翼对内纱的退绕阻力。

为解决上述技术问题,本实用新型所采用的技术方案是:一种倍捻机磁滞阻尼张力器,支撑轴中空设有纱管通道,支撑轴的外壁设有导向结构,调节旋钮与支撑轴可旋转的套接,调节旋钮设有与导向结构相配合的滑动结构,由调节旋钮的旋转带动磁片座旋转实现升降运动;

调节旋钮与磁片座固定连接,磁片座内固设有多个沿圆周均布的永磁体,永磁体磁极交错布置;

旋转套与支撑轴可旋转的套接,旋转套内设有一个阻尼片,阻尼片与永磁体之间设有间隙。

优选的方案中,在支撑轴的外壁设有导槽,在调节旋钮的顶部设有弹性部,弹性部上设有与导槽滑动配合的滑块部,所述的导槽为水平圆弧导槽。

优选的方案中,所述的导槽位于圆周180°~260°的范围内。

优选的方案中,在支撑轴的外壁设有盘旋轨道,在磁片座内壁设有齿块与盘旋轨道滑动配合。

优选的方案中,所述的盘旋轨道位于圆周180°的范围内,共两条盘旋轨道关于中心对称,所述的齿块共两块也是关于中心对称。

优选的方案中,弹性部上还设有定位凸起,在支撑轴的外壁设有多个定位齿槽,当调节旋钮旋转,定位凸起沿着定位齿槽跳动;

调节旋钮与刻度罩连接,刻度罩上设有刻度,在支撑轴上设有定位点。

优选的方案中,磁片座与导磁片固定连接,导磁片与永磁体固定连接。

优选的方案中,间隙的最小值为0.5mm。

优选的方案中,调节旋钮的底部设有调节旋钮连接部,磁片座的顶部设有磁片座连接部,调节旋钮连接部与磁片座连接部嵌合连接。

优选的方案中,旋转套与锭翼固定连接,锭翼的端头设有导纱管。

本实用新型提供了一种倍捻机磁滞阻尼张力器,通过设置的导向结构与滑动结构的配合,与现有技术的螺纹配合相比,实现了较高的配合精度。优选的方案中,导槽被限制在一个较小的圆周范围内,从而便于提高加工精度。进一步优选的方案中,设置的定位凸起与定位齿槽的结构,能够方便可靠的定位调节旋钮的位置,从而使永磁体与阻尼片之间的间隙保持恒定,以使张力调节均匀。将锭翼与旋转套固定连接,在支撑轴的底部设有限位部与主张力调节器张力杆固定联结,从而使本实用新型的结构,能够用于倍捻机中,实现了锭翼对内纱退绕阻力的调节。本实用新型用于工业丝倍捻机内纱退绕时,可以有效保证纱线均匀退绕,不缠纱、不断纱,以达到更好的纺纱质量。选用钕铁硼永磁体材料可以保证磁性的稳定性和长久性,可长时间连续运转。精确的刻度显示可更加方便的调节,大部分零件采用塑模成型,生产率高,经济实惠。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步说明:

图1为本实用新型结构的主视示意图。

图2为本实用新型中支撑轴主视结构示意图。

图3为本实用新型中永磁体部分的局部结构示意图。

图4为本实用新型中磁片座的主视结构示意图。

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