[实用新型]冲击波沐足盆

权利要求书

1.一种冲击波沐足盆，包括盆体、控制面板及两侧设置电气控制部分，其特征在于，所述的盆体设置有冲击波发生装置，内部设置有水循环加热部分，外挂设置有膝关节冲击波理疗头。

2.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的冲击波发生装置是由安装在盆体内底部的电磁盘和设置在盆体两侧的并通过电缆连接的高频高压电源、大功率高压触发器和充电电容组成。

3.根据权利要求2所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的电磁盘由高压线圈和覆盖其上面的金属膜构成，直径为200mm。

4.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的盆体内底部安装了一个能调整高低的支架，盆体内水位高度不能超过200mm。

5.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的冲击波发生装置产生微量冲击波能流密度设置在0.01～0.06mJ/mm²。

6.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的控制面板由触摸屏控制面板、急停开关及电源开关组成，由它们调节控制冲击波能量和频率调节、整机启动关闭、触发、加热和排水。

7.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的水循环加热部分包括进水口、出水口、水循环加热器、过滤器、水循环泵、水阀及水管，自来水经过水循环加热器和过滤器加热和过滤进入盆体。

8.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的膝关节冲击波理疗头的头部固定套包上水囊，中端安装的一组高压线圈通过电缆依次连接设置在盆体两侧的高频高压电源、大功率高压触发器和充电电容，高压线圈上面设有金属锅形振膜，振膜与线圈间装有绝缘体，振膜以上水囊充满水，设定该理疗头能流密度范围在0.09～0.6mJ/mm²。

9.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的电气控制部分由开关电源、中间继电器、交流接触器、固态继电器及空气开关等组成。

10.根据权利要求1所述的冲击波沐足盆，其特征在于，所述的装置底部安装有四个脚轮，其中前两个为定向转动轮，后两个为万能转向制动轮。