[实用新型]基板移送装置及包括其的基板处理系统有效
申请号: | 201621461472.8 | 申请日: | 2016-12-29 |
公开(公告)号: | CN206541816U | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 李气雨;赵珳技 | 申请(专利权)人: | K.C.科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/683;H01L21/67 |
代理公司: | 北京冠和权律师事务所11399 | 代理人: | 朱健 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 移送 装置 包括 处理 系统 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统,更为具体地涉及一种基板移送装置及包括其的基板处理系统,所述基板移送装置在基板以悬浮的状态移动的期间,能够使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持平坦。
背景技术
在制造LCD等平板显示器的工艺中,伴随着在由玻璃等制作的被处理基板的表面涂覆抗蚀剂液等药液的涂布(coating)工艺。在LCD的尺寸小的现有技术中使用了旋转涂布方法,所述旋转涂布方法在被处理基板的中央部涂覆药液的同时,使得被处理基板旋转,据此将药液涂覆于被处理基板的表面。
但是,随着LCD画面的尺寸大型化,旋转涂布方式几乎不被使用,并且正使用如下方式的涂布方法:使得具有与被处理基板的宽度相对应的长度的狭缝(slit)形态的狭缝喷嘴和被处理基板相对移动,同时从狭缝喷嘴将药液涂覆于被处理基板的表面。
最近,作为一种在所规定的时间内将药液涂布于更多数量的被处理基板的表面的方法的部分,在日本公开专利公报第2005-243670号公开一种如下形式的技术:设置有悬浮平台,所述悬浮平台通过沿着基板被搬入并涂覆且搬出的方向喷出空气来使得基板悬浮,在其两侧设置有由吸附垫等形成的基板排出装置,通过停止状态的狭缝喷嘴来将药液供给于连续被供给的被处理基板的表面并进行涂布。
另外,在悬浮式基板涂层器(coater)装置中,在基板被移送的期间,如果基板的悬浮高度不一致或者部分产生下垂,则问题在于,药液难以以一致的高度涂覆于基板的表面,并且由于药液的不均匀涂覆而产生污点,因此在基板被移送的期间,基板的悬浮高度应该能够保持一致且稳定。
但是,在现有悬浮式基板涂层器装置中,存在的问题在于,在悬浮力作用于基板的期间,难以使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定,并且由于基板的悬浮高度偏差而产生无法均匀地涂覆药液的现象。
特别是,在现有技术中问题在于,如果在基板的悬浮高度和吸附于基板侧边的吸附垫的配置高度间产生高度偏差,则难以使得基板以一致的高度整体悬浮,据此存在的问题在于,在药液被涂覆的地点(狭缝喷嘴的下部)狭缝喷嘴和基板之间的间距无法保持一致,从而药液难以以均匀的厚度涂覆于基板的表面。
据此,最近进行用于使得基板的悬浮高度保持一致并均匀地涂覆药液的多种研究,但是仍然存在不足,从而要求对此的开发。
实用新型内容
本实用新型的目的在于,提供一种基板移送装置及包括其的基板处理系统,其能够使得基板的悬浮高度保持一致,并且能够以不晃动的状态使得基板稳定地悬浮。
特别是,本实用新型的目的在于,对基板与使得基板移送的移送部件之间的高度偏差进行补偿,从而能够以一致的高度使得基板悬浮。
此外,本实用新型的目的在于,在不对结构变更进行变更或者不增加另外的设备的状态下,可补偿相对于基板的悬浮高度的移送部件的高度偏差。
此外,本实用新型的目的在于,可简化结构,并且能够有助于设备的小型化。
此外,本实用新型的目的在于,提供一种基板处理装置,其在将药液涂覆于基板的过程中,均匀地涂覆药液,从而可抑制污点的产生。
此外,本实用新型的目的在于,可形成高品质的药液涂覆层,并且能够提高收率。
根据用于实现如上所述的本实用新型的目的的本实用新型的优选实施例,对进行药液涂覆工艺处理的基板进行移送的基板移送装置包括:振动板,其利用通过超声波产生的振动能来使得基板悬浮;移送部件,其使得通过振动板悬浮的基板移送;偏差补偿部,其对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿。
其目的在于,当基板以悬浮的状态移动的期间,使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持平坦。
特别是,本实用新型中,利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿,据此可得到的有利效果在于,使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
换句话说,如果悬浮的基板和移送部件之间产生高度偏差,例如,如果移送部件的上面(吸附基板的面)的高度比悬浮的基板的底面高,则问题在于,被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变高。相反,如果移送部件的上面高度比悬浮的基板的底面低,则问题在于,被移送部件抓握(吸附)的基板的边缘部的高度部分地变低。
由此,本实用新型中,利用偏差补偿部来对悬浮的基板和移送部件之间的高度偏差进行补偿,据此可得到的有利效果在于,在没有基板的部分的高度变化的状态下使得基板的悬浮高度及悬浮姿势保持一定。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造