[实用新型]一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩有效
| 申请号： | 201621441260.3 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN206289298U | 公开（公告）日： | 2017-06-30 |
| 发明（设计）人： | 龙汝磊;戴秀海;余龙;孙英会 | 申请（专利权）人： | 光驰科技（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/28 | 分类号： | C23C14/28 |
| 代理公司： | 上海申蒙商标专利代理有限公司31214 | 代理人： | 徐小蓉 |
| 地址： | 200444 上海市宝*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 实现 离子源 均匀 照射 镀膜 屏蔽 | ||
【权利要求书】：
1.一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩，涉及离子源对承载在可旋转镀膜伞架上的镀膜基片进行镀膜，其特征在于：所述屏蔽罩设置在所述离子源的外围，所述屏蔽罩的罩体顶部开设有扇形或类扇形开口，所述扇形或类扇形开口位于所述离子源的上方。
2.根据权利要求1所述的一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩，其特征在于：所述扇形或类扇形开口的大小满足于使所述离子源发射的荷能粒子在所述镀膜伞架上的投影覆盖所述镀膜基片的要求。
3.根据权利要求1所述的一种实现离子源均匀照射镀膜基片的屏蔽罩，其特征在于：所述扇形或类扇形开口的圆心位于所述镀膜伞架的中垂线上。
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