[实用新型]一种等离子体刻蚀机的压环

权利要求书

1.一种等离子体刻蚀机的压环，用于将被刻蚀样片固定于下电极，其特征在于，

所述压环包括压环主体、定位爪、和样片压足，所述压环主体整体形成为冠状，所述定位爪沿着所述压环主体的周向间隔一定角度而设置并沿径向凸出到压环主体外周，所述样片压足沿周向设置于所述压环主体的内侧并沿径向向所述压环主体的中心凸出，

在所述定位爪的每个中设置有用于与垂直导向杆相配合的定位孔。

2.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述定位爪的数目为至少三个，且在压环主体的周向上均匀分布。

3.根据权利要求2所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

每个所述定位爪均与压环主体所在的平面夹着一定角度θ而倾斜设置，所述角度θ为5°～85°，每个所述定位爪的上表面与所述压环主体的上表面的距离差为10～40mm。

4.根据权利要求2所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

每个所述定位爪投影在下电极的上表面上的径向长度为10～50mm，每个所述定位爪沿所述压环主体的周向的宽度为20～50mm。

5.根据权利要求1或2所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述定位爪与所述压环主体为一体化成形而成的结构。

6.根据权利要求1所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述样片压足的数目为至少三个，且在压环主体的周向上均匀分布。

7.根据权利要求1或6所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述样片压足的朝向所述样片的面形成为台阶状而包括样片压触面和压足凹入面。

8.根据权利要求1或6所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述样片压足的与所述样片压触面相垂直的面从所述样片压触面离开一定距离后向所述压环主体径向朝外的方向倾斜而与所述样片压触面形成一定角度a，所述角度a为90°～150°。

9.根据权利要求1或6所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述样片压足的形状是矩形、圆形、椭圆形、或三角形。

10.根据权利要求1～4、6中任一项所述的等离子体刻蚀机的压环，其特征在于，

所述压环主体由作为绝缘材质的陶瓷或石英加工而成。