[实用新型]偏光片保护膜气纹改善结构有效
申请号: | 201621376844.7 | 申请日: | 2016-12-15 |
公开(公告)号: | CN206311785U | 公开(公告)日: | 2017-07-07 |
发明(设计)人: | 朱洪彬;黄姿菁 | 申请(专利权)人: | 昆山之奇美材料科技有限公司 |
主分类号: | G02B5/30 | 分类号: | G02B5/30;G02B1/14 |
代理公司: | 南京纵横知识产权代理有限公司32224 | 代理人: | 董建林 |
地址: | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 偏光 保护膜 改善 结构 | ||
1.一种偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:包括自下而上依次贴合有下TAC层、PVA层、上TAC层和保护膜的偏光片,所述上TAC层包括若干卷首尾连接的TAC材料,相邻的两卷TAC材料的接缝处采用连接胶带连接,所述连接胶带贴于相邻的两卷TAC材料接缝处的上表面,所述连接胶带上设置有若干个通孔。
2.根据权利要求1所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述连接胶带上设置有若干个均匀排布的通孔。
3.根据权利要求2所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述通孔为三角形、方形、圆形、椭圆形或不规则形。
4.根据权利要求1所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述通孔为圆形,若干个圆形通孔均匀的排布于连接胶带上。
5.根据权利要求1-4任一所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述连接胶带的宽度为100mm。
6.一种偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:包括自下而上依次贴合有离型膜、PSA层、下TAC层、PVA层、上TAC层和保护膜的偏光片,所述上TAC层包括若干卷首尾连接的TAC材料,相邻的两卷TAC材料的接缝处采用连接胶带连接,所述连接胶带贴于相邻的两卷TAC材料接缝处的上表面,所述连接胶带上设置有若干个通孔。
7.根据权利要求6所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述连接胶带上设置有若干个均匀排布的通孔。
8.根据权利要求7所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述通孔为三角形、方形、圆形、椭圆形或不规则形。
9.根据权利要求6所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述通孔为圆形,若干个圆形通孔均匀的排布于连接胶带上。
10.根据权利要求6-9任一所述的偏光片保护膜气纹改善结构,其特征在于:所述连接胶带的宽度为100mm。
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